Фтор (F)
ГалогенГаз
Стандартная относительная атомная масса
18,998403 uЭлектронная конфигурация
[He] 2s2 2p5Температура плавления
-219,62 °CТемпература кипения
-188,12 °CПлотность
1,696 kg/m³Степени окисления
-1Электроотрицательность (по Полингу)
3,98Энергия ионизации (1-я)
17,42282 eVГод открытия
1886Атомный радиус
50 pmПодробные сведения
Фтор — самый лёгкий галоген и самый электроотрицательный химический элемент. В элементарной форме он существует как двухатомный фтор F₂ — высокореакционный окисляющий газ. Природный фтор почти целиком представлен стабильным изотопом ¹⁹F и встречается в минералах, а не как свободный элемент. Его химия лежит в основе фторидных минералов, химии обогащения урана, фторполимеров, хладагентов, многих агрохимикатов и значительной части современной лекарственной химии.
Фтор — самый электроотрицательный и наиболее реакционноспособный из всех элементов. Это бледно-желтый, коррозионно-активный газ, который реагирует с большинством органических и неорганических веществ. Мелкодисперсные металлы, стекло, керамика, углерод и даже вода горят во фторе ярким пламенем.
До Второй мировой войны промышленное производство элементарного фтора отсутствовало. Однако проект атомной бомбы и применение в ядерной энергетике сделали необходимым производство больших количеств.
Название происходит от латинского fluere — «течь» или «поток», поскольку флюорит (CaF2) использовался в металлургии в качестве флюса благодаря своей низкой температуре плавления. Он был открыт в плавиковой кислоте шведским аптекарем и химиком Карлом-Вильгельмом Шееле в 1771 году, но был выделен лишь в 1886 году французским аптекарем и химиком Анри Муассаном.
Фтор является наиболее реакционноспособным из всех элементов, и ни одно химическое вещество не способно высвободить фтор из его соединений. По этой причине фтор не встречается в природе в свободном виде и был чрезвычайно труден для выделения учёными. Первое зарегистрированное использование соединения фтора относится примерно к 1670 году и связано с набором инструкций по травлению стекла, где упоминался богемский изумруд (CaF2). Химики пытались определить материал, способный травить стекло, и Джордж Гор смог получить небольшое количество фтора электролитическим способом в 1869 году. Неизвестно было Гору, что газообразный фтор взрывообразно соединяется с водородом. Именно это и произошло в опыте Гора, когда газообразный фтор, образовавшийся на одном электроде, соединился с газообразным водородом, образовавшимся на другом электроде. Фердинанд Фредерик Анри Муассан, французский химик, первым успешно выделил фтор в 1886 году. Он сделал это путём электролиза фторида калия (KF) и плавиковой кислоты (HF). Он также полностью отделил газообразный фтор от водорода и построил свой электролизёр полностью из платины. Его работа была настолько выдающейся, что в 1906 году ему была присуждена Нобелевская премия по химии. В настоящее время фтор по-прежнему получают путём электролиза фторида калия и плавиковой кислоты, а также путём электролиза расплавленного кислого фторида калия (KHF2).
От латинского и французского fluere: течь или поток. В 1529 году Георгиус Агрикола описал использование плавикового шпата в качестве флюса, а уже в 1670 году Швандхард обнаружил, что стекло травится при воздействии плавикового шпата, обработанного кислотой. Шееле и многие последующие исследователи, включая Дэви, Гей-Люссака, Лавуазье и Тенара, экспериментировали с плавиковой кислотой, причём некоторые опыты заканчивались трагически.
Элемент был окончательно выделен в 1866 году Муассаном после почти 74 лет непрерывных усилий.
Чистый фтор, F₂, — бледно-желтый газ при обычных температуре и давлении. При охлаждении он конденсируется в желтую жидкость и затвердевает в бледное твердое вещество при низкой температуре. Газ имеет резкий раздражающий запах, однако запах не является безопасным средством обнаружения.
Элементарный фтор, F₂, используется главным образом там, где требуется его чрезвычайная окисляющая и фторирующая способность, включая получение гексафторида урана, UF₆, для разделения изотопов и производство некоторых специальных неорганических фторидов. Гораздо большее практическое значение имеют фторсодержащие соединения. Фторполимеры, такие как политетрафторэтилен, (C₂F₄)ₙ, используются для химически стойких покрытий, уплотнений, мембран и электрической изоляции. Фторидные соединения используются при травлении стекла, производстве алюминия, в стоматологических средствах, фармацевтике и химикатах для защиты растений.
Фтор добавляют в городские системы водоснабжения в количестве примерно одной части на миллион для предотвращения кариеса. Фторид натрия (NaF), фторид олова(II) (SnF2) и монофторфосфат натрия (Na2PO3F) — все это соединения фтора, добавляемые в зубную пасту также для предотвращения кариеса. Плавиковая кислота (HF) используется для травления стекла, включая большую часть стекла, применяемого в лампах накаливания. Гексафторид урана (UF6) используется для разделения изотопов урана. Кристаллы фторида кальция (CaF2), также известного как флюорит и плавиковый шпат, используются для изготовления линз, фокусирующих инфракрасный свет. Фтор соединяется с углеродом, образуя класс соединений, известных как фторуглероды. Некоторые из этих соединений, такие как дихлордифторметан (CF2Cl2), широко использовались в системах кондиционирования и охлаждения, а также в аэрозольных баллончиках, но были постепенно выведены из употребления из-за ущерба, который они наносили озоновому слою Земли.
Фтор и его соединения используются при производстве урана (из гексафторида) и более чем 100 коммерческих фторхимических продуктов, включая многие высокотемпературные пластмассы. Плавиковая кислота травит стекло ламп накаливания. Фторхлоруглеводороды широко используются в системах кондиционирования и охлаждения.
Наличие фтора в виде растворимого фторида в питьевой воде в количестве до 2 ppm может вызывать пятнистую эмаль зубов у детей в период формирования постоянных зубов; однако в меньших количествах фторид помогает предотвращать кариес.
Элементарный фтор изучался как ракетное топливо, поскольку он обладает исключительно высоким значением удельного импульса.
Изотопы в медицине
18F — радиоактивный изотоп фтора, который используется в соединении 18F-FDG (18F-меченая фтордезоксиглюкоза) для визуализации органов, костей, тканей и мозга с помощью метода позитронно-эмиссионной томографии (PET). Соединение 18F-FDG вводят инъекционно, и изотопно меченая глюкоза поглощается любой клеткой, которой глюкоза необходима в качестве источника энергии [98] R. Krebs. The History And Use Of Our Earth’s Chemical Elements: A Reference Guide, 2nd ed. Greenwood Press, Westport, CT (2006)., [99] World Nuclear Association. Radioisotopes in Medicine, World Nuclear Association (2014), Feb. 23; http://www.world-nuclear.org/info/inf55.html..
– 18F испускает позитроны, которые накапливаются в ткани и взаимодействуют с обычными отрицательными электронами при введении в организм. Позитроны и электроны аннигилируют друг с другом, образуя два гамма-кванта, испускаемых в противоположных направлениях. Излучение регистрируется PET-камерой, которая формирует изображение исследуемой части тела (рис. IUPAC.9.1).
– Поскольку 18F имеет короткий период полураспада, около 110 мин, вероятность лучевого повреждения пациента невелика.
Фтор чаще всего имеет степень окисления −1 в соединениях, как в фтороводороде, HF, фториде натрия, NaF, и фториде кальция, CaF₂. С сильно электроотрицательными элементами он образует ионные фториды; с неметаллами — сильно ковалентные фториды, такие как гексафторид серы, SF₆, и тетрафторид кремния, SiF₄. Фтор также может образовывать межгалогенидные соединения, включая трифторид хлора, ClF₃. Оксиды фтора, такие как дифторид кислорода, OF₂, необычны тем, что фтору приписывается отрицательная степень окисления, тогда как кислороду — положительная.
One hypothesis says that fluorine can be substituted for hydrogen wherever it occurs in organic compounds, which could lead to an astronomical number of new fluorine compounds. Compounds of fluorine with rare gases have now been confirmed in fluorides of xenon, radon, and krypton.
See more information at the Fluorine compound page.
Элементарный фтор, F₂, является остро токсичным, коррозионно-активным и мощным окислителем, который может воспламенять или бурно реагировать со многими веществами. Фтороводород, HF, особенно опасен, поскольку проникает в ткани и связывает ионы кальция и магния. Растворимые фториды могут быть токсичны при достаточной дозе, тогда как контролируемые низкие концентрации иона фтора, F⁻, используются в стоматологии. Некоторые фторсодержащие газы химически стабильны, но могут быть асфиксиантами или мощными парниковыми газами.
Элементарный фтор и фторид-ион высокотоксичны. Свободный элемент обладает характерным резким запахом, обнаруживаемым уже при концентрациях 20 ppb, что ниже безопасного рабочего уровня. Рекомендуемая максимальная допустимая концентрация при суточной 8-часовой средневзвешенной экспозиции составляет 1 ppm.
Фтор поступает в окружающую среду главным образом в виде фторида из минералов, вулканических выбросов, морских брызг, промышленных выбросов и продуктов выветривания. Фторид-ион, F⁻, связывается с кальциевыми, алюминиевыми и железосодержащими фазами и может иммобилизоваться в почвах или осадках, хотя подвижность сильно зависит от pH и водной химии. Повышенное природное или промышленное содержание фторида в подземных водах может влиять на зубы, кости, домашний скот и растительность. Стойкие органофтористые соединения сильно различаются по подвижности и поведению при разложении.
Поставка фтора основана прежде всего на добыче флюорита, CaF₂, при меньшем вкладе фосфоритов, содержащих фторапатит, перерабатываемых при производстве удобрений. Фтороводород, HF, является центральным промышленным промежуточным продуктом, получаемым обработкой флюорита серной кислотой, H₂SO₄. Прямое производство и транспортировка элементарного фтора ограничены его высокой реакционной способностью, поэтому его обычно получают или потребляют вблизи места использования. Спрос связан с выплавкой алюминия, химическим производством, материалами для электроники, фторполимерами и регулируемым переходом на новые хладагенты. Переработка важна для некоторых фторсодержащих материалов, но часто химически или экономически затруднена.
Встречается в минералах флюорите (CaF2) и криолите(Na3AlF6). Электролиз плавиковой кислоты (HF) или кислого фторида калия (KHF2) — единственный практически применимый метод промышленного получения.
Фтор относительно редок в космосе по сравнению с соседними лёгкими элементами. Считается, что он образуется в нескольких условиях, включая области гелиевого горения в эволюционировавших звёздах, нейтринно-управляемые процессы в сверхновых с коллапсом ядра и, возможно, новые, причём их относительный вклад всё ещё изучается. В планетных материалах он концентрируется в минералах, расплавах и летучих фазах, а не остаётся в виде свободного F₂.
- Фтор имеет только один стабильный природный изотоп, ¹⁹F.
- Флюорит, CaF₂, дал элементу его название благодаря использованию в качестве флюса.
- Травление стекла плавиковой кислотой, HF, отражает прочность связи кремний—фтор.
- Политетрафторэтилен, (C₂F₄)ₙ, был открыт случайно в ходе исследований хладагента.
- Гексафторид урана, UF₆, достаточно летуч для обогащения изотопов в газовой фазе.
- Фторидные минералы могут сохранять фтор в породах в геологическом масштабе времени.
Изображения
Свойства
Физические свойства
- Атомный радиус (эмпирический)
- 50 pm Сравнить Атомный радиус (эмпирический) у всех элементов →
- Ковалентный радиус
- 57 pm Сравнить Ковалентный радиус у всех элементов →
- Ван-дер-ваальсов радиус
- 135 pm Сравнить Ван-дер-ваальсов радиус у всех элементов →
- Плотность
- 1,696 kg/m³ Сравнить Плотность у всех элементов →
- Молярный объём
- 0,0171 L/mol
- Фаза при стандартных температуре и давлении
- Газ Сравнить Фаза при стандартных температуре и давлении у всех элементов →
- Температура плавления
- -219,62 °C Сравнить Температура плавления у всех элементов →
- Температура кипения
- -188,12 °C Сравнить Температура кипения у всех элементов →
- Теплопроводность
- 0,028 Вт/(м·К) Сравнить Теплопроводность у всех элементов →
- Удельная теплоёмкость
- 0,824 Дж/(г·К) Сравнить Удельная теплоёмкость у всех элементов →
- Молярная теплоёмкость
- 31,304 Дж/(моль·К) Сравнить Молярная теплоёмкость у всех элементов →
- Кристаллическая структура
- Моноклинная Сравнить Кристаллическая структура у всех элементов →
Химические свойства
- Электроотрицательность (по Полингу)
- 3,98 Сравнить Электроотрицательность (по Полингу) у всех элементов →
- Электроотрицательность (по Аллену)
- 4,193
- Сродство к электрону
- 3,4011 eV
- Энергия ионизации (1-я)
- 17,42282 eV Сравнить Энергия ионизации (1-я) у всех элементов →
- Энергия ионизации (2-я)
- 34,97093 eV Сравнить Энергия ионизации (2-я) у всех элементов →
- Энергия ионизации (3-я)
- 62,708196 eV Сравнить Энергия ионизации (3-я) у всех элементов →
- Энергия ионизации (4-я)
- 87,1753 eV Сравнить Энергия ионизации (4-я) у всех элементов →
- Энергия ионизации (5-я)
- 114,249393 eV Сравнить Энергия ионизации (5-я) у всех элементов →
- Степени окисления
- -1 Сравнить Степени окисления у всех элементов →
- Валентные электроны
- 7 Сравнить Валентные электроны у всех элементов →
- Электронная конфигурация
- [He] 2s2 2p5
Термодинамические свойства
- Тройная точка (температура)
- -219,67 °C
- Тройная точка (давление)
- 9e+4 Pa
- Критическая точка (температура)
- -128,74 °C
- Критическая точка (давление)
- 5,1724e+6 Pa
- Теплота плавления
- 0,0026429 eV Сравнить Теплота плавления у всех элементов →
- Теплота испарения
- 0,06778256 eV Сравнить Теплота испарения у всех элементов →
- Теплота атомизации
- 0,8228222 eV
- Энтальпия атомизации
- 0,82225216 eV
Ядерные свойства
- Протоны
- 9 Сравнить Протоны у всех элементов →
- Нейтроны
- 10 Сравнить Нейтроны у всех элементов →
- Известные изотопы
- 19 Сравнить Известные изотопы у всех элементов →
- Стабильные изотопы
- 1 Сравнить Стабильные изотопы у всех элементов →
- Наиболее стабильный изотоп
- F-19
- Год открытия
- 1886
Распространённость
- Содержание в земной коре
- 585 мг/кг Сравнить Содержание в земной коре у всех элементов →
- Содержание в океане
- 1,3 мг/л Сравнить Содержание в океане у всех элементов →
Кристаллическая структура
Нет данных
Электронная структура
- Электроны по оболочкам
- 2, 7 Сравнить Электроны по оболочкам у всех элементов →
Идентификаторы
- Номер CAS
- 7782-41-4 Сравнить Номер CAS у всех элементов →
- Символ терма
- 2P°3/2
- InChI
- InChI=1S/F
- Ключ InChI
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N
Электронная конфигурация Измеренные
F: 2s² 2p⁵[He] 2s² 2p⁵1s² 2s² 2p⁵Модель атома
Изотопы различаются числом нейтронов, массой и стабильностью, но не электронной конфигурацией нейтрального атома.
Схематическая модель атома, без соблюдения масштаба.
Атомный отпечаток
Спектр излучения / поглощения
Распределение изотопов
| Массовое число | Атомная масса (а. е. м.) | Содержание в природе | Период полураспада |
|---|---|---|---|
| 19 Стабильный | 18,99840316273 ± 0,00000000092 | 100,0000% | Стабильный |
Фаза / агрегатное состояние
Причина: на 213,1 °C выше температуры кипения (-188,12 °C)
Схематично, без соблюдения масштаба
Температуры фазовых переходов
Энергии переходов
Энергия, необходимая для плавления 1 моль вещества при температуре плавления
Энергия, необходимая для испарения 1 моль вещества при температуре кипения
Плотность
При стандартных условиях
Оценка по уравнению идеального газа при текущей T
Расширенные данные
Атомные спектры
Данные о спектральных линиях ?
| Ион | Заряд | Всего линий | Вероятности переходов | Обозначения уровней |
|---|---|---|---|---|
| F I | 0 | 162 | 120 | 162 |
| F II | +1 | 150 | 67 | 67 |
| F III | +2 | 141 | 34 | 34 |
| F IV | +3 | 75 | 30 | 30 |
| F V | +4 | 513 | 472 | 472 |
| F VI | +5 | 269 | 269 | 269 |
| F VII | +6 | 470 | 439 | 470 |
| F VIII | +7 | 128 | 128 | 128 |
| F IX | +8 | 137 | 137 | 137 |
Данные об энергетических уровнях ?
| Ион | Заряд | Уровни |
|---|---|---|
| F I | 0 | 303 |
| F II | +1 | 291 |
| F III | +2 | 278 |
| F IV | +3 | 170 |
| F V | +4 | 138 |
| F VI | +5 | 100 |
| F VII | +6 | 77 |
| F VIII | +7 | 151 |
| F IX | +8 | 149 |
Ионные радиусы
| Заряд | Координация | Спин | Радиус |
|---|---|---|---|
| -1 | 2 | Нет данных | 128.5 пм |
| -1 | 3 | Нет данных | 130 пм |
| -1 | 4 | Нет данных | 131 пм |
| -1 | 6 | Нет данных | 133 пм |
| +7 | 6 | Нет данных | 8 пм |
Соединения
Изотопы (1)
| Массовое число | Атомная масса (а. е. м.) | Содержание в природе | Период полураспада | Тип распада | |
|---|---|---|---|---|---|
| 19 Стабильный | 18,99840316273 ± 0,00000000092 | 100,0000% | Стабильный | stable |
Спектральные линии
| Длина волны (нм) | Интенсивность | Степень ионизации | Тип | Переход | Точность | Источник | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 383.22 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 2F* → 2p2.(1D).3d 2D | Измеренная | NIST | |
| 384.7086 нм | 270 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | Измеренная | NIST | |
| 384.9985 нм | 260 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | Измеренная | NIST | |
| 385.1668 нм | 250 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | Измеренная | NIST | |
| 385.69 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3s 1S → 1s2.2s.3p 3P* | Измеренная | NIST | |
| 385.712 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 387.086 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 388.508 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Измеренная | NIST | |
| 388.6 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | Измеренная | NIST | |
| 388.6 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | Измеренная | NIST | |
| 388.6 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | Измеренная | NIST | |
| 389.2 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | Измеренная | NIST | |
| 389.2 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | Измеренная | NIST | |
| 389.2 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | Измеренная | NIST | |
| 390.229 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 390.45 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Измеренная | NIST | |
| 394.51 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | Измеренная | NIST | |
| 394.51 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | Измеренная | NIST | |
| 394.51 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | Измеренная | NIST | |
| 394.518 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Измеренная | NIST | |
| 394.736 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Измеренная | NIST | |
| 396.08 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Измеренная | NIST | |
| 396.113 нм | Нет данных | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Измеренная | NIST | |
| 399.6 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | Измеренная | NIST | |
| 399.6 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | Измеренная | NIST | |
| 399.6 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | Измеренная | NIST | |
| 399.692 нм | Нет данных | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Измеренная | NIST | |
| 399.692 нм | Нет данных | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Измеренная | NIST | |
| 400.26 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Измеренная | NIST | |
| 400.942 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Измеренная | NIST | |
| 402.4726 нм | 240 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | Измеренная | NIST | |
| 402.501 нм | 220 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | Измеренная | NIST | |
| 402.5491 нм | 230 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | Измеренная | NIST | |
| 405.99 нм | Нет данных | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Измеренная | NIST | |
| 405.99 нм | Нет данных | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Измеренная | NIST | |
| 410.3075 нм | 190 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 410.3213 нм | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 410.3506 нм | 200 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 410.3713 нм | 180 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 410.387 нм | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 410.4008 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 410.916 нм | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Измеренная | NIST | |
| 411.03 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3p 1P* → 1s2.2s.3d 3D | Измеренная | NIST | |
| 411.272 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Измеренная | NIST | |
| 411.2969 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Измеренная | NIST | |
| 411.44 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3p 1P* → 1s2.2s.3d 3D | Измеренная | NIST | |
| 411.6535 нм | 160 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Измеренная | NIST | |
| 411.699 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Измеренная | NIST | |
| 411.8752 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Измеренная | NIST | |
| 411.9207 нм | 150 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Измеренная | NIST | |
| 415.775 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p4 1D → 2s2.2p4 1S | Измеренная | NIST | |
| 423.3 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Измеренная | NIST | |
| 424.76 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Измеренная | NIST | |
| 426.19 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | Измеренная | NIST | |
| 426.28 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3s 1S → 1s2.2s.3p 1P* | Измеренная | NIST | |
| 427.32 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Измеренная | NIST | |
| 427.94 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | Измеренная | NIST | |
| 429.9165 нм | 200 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 1D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 1F | Измеренная | NIST | |
| 432.27 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Измеренная | NIST | |
| 433.94 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Измеренная | NIST | |
| 435.28 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | Измеренная | NIST | |
| 437.11 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | Измеренная | NIST | |
| 439.05 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Измеренная | NIST | |
| 444.6527 нм | 160 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Измеренная | NIST | |
| 444.6689 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Измеренная | NIST | |
| 444.6721 нм | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Измеренная | NIST | |
| 444.7117 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Измеренная | NIST | |
| 444.7148 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Измеренная | NIST | |
| 444.7188 нм | 180 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Измеренная | NIST | |
| 455.99 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 1D → 1s2.2p.3d 1F* | Измеренная | NIST | |
| 456.45 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Измеренная | NIST | |
| 457.45 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Измеренная | NIST | |
| 457.96 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Измеренная | NIST | |
| 459.81 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Измеренная | NIST | |
| 460.57 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Измеренная | NIST | |
| 461.08 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Измеренная | NIST | |
| 463.41 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.4p 1P → 1s2.2p.4d 1P* | Измеренная | NIST | |
| 478.945 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Измеренная | NIST | |
| 478.945 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Измеренная | NIST | |
| 486.899 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Измеренная | NIST | |
| 486.899 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Измеренная | NIST | |
| 490.456 нм | Нет данных | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Измеренная | NIST | |
| 507.4 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 507.86 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 509.78 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 510.25 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 511.78 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 515.72 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 517.29 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 517.4 нм | Нет данных | F VIII | emission | 1s.3s 3S → 1s.3p 3P* | Измеренная | NIST | |
| 522.95 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Измеренная | NIST | |
| 525.1 нм | Нет данных | F VIII | emission | 1s.3s 3S → 1s.3p 3P* | Измеренная | NIST | |
| 528.03 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | Измеренная | NIST | |
| 528.03 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | Измеренная | NIST | |
| 528.03 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | Измеренная | NIST | |
| 528.03 нм | Нет данных | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | Измеренная | NIST | |
| 533.07 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 1S → 1s2.2p.3d 1P* | Измеренная | NIST | |
| 543.21 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 544 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | Измеренная | NIST | |
| 544 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | Измеренная | NIST | |
| 544 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | Измеренная | NIST | |
| 545.91 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 549.84 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 549.99 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 556.76 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 560.85 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Измеренная | NIST | |
| 568.67 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | Измеренная | NIST | |
| 572.12 нм | Нет данных | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Измеренная | NIST | |
| 572.12 нм | Нет данных | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Измеренная | NIST | |
| 572.15 нм | Нет данных | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Измеренная | NIST | |
| 573.29 нм | Нет данных | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Измеренная | NIST | |
| 573.29 нм | Нет данных | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Измеренная | NIST | |
| 573.32 нм | Нет данных | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Измеренная | NIST | |
| 573.32 нм | Нет данных | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Измеренная | NIST | |
| 576.14 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | Измеренная | NIST | |
| 585.63 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | Измеренная | NIST | |
| 593.55 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | Измеренная | NIST | |
| 604 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | Измеренная | NIST | |
| 604 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | Измеренная | NIST | |
| 604 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | Измеренная | NIST | |
| 683 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | Измеренная | NIST | |
| 683 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | Измеренная | NIST | |
| 683 нм | Нет данных | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | Измеренная | NIST | |
| 713.8 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | Измеренная | NIST | |
| 719.4 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | Измеренная | NIST | |
| 723.4 нм | Нет данных | F VI | emission | 1s2.2p.4s 1P* → 1s2.2p.4p 1D | Измеренная | NIST | |
| 728.5 нм | Нет данных | F VIII | emission | 1s.3s 1S → 1s.3p 1P* | Измеренная | NIST | |
| 735.8 нм | Нет данных | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | Измеренная | NIST |
Расширенные данные о свойствах
Ковалентные радиусы (расширенные данные)
- Ковалентный радиус (по Пююккё)
- 64 pm
- Ковалентный радиус (по Пююккё, двойная связь)
- 59 pm
- Ковалентный радиус (по Пююккё, тройная связь)
- 53 pm
- Ковалентный радиус (по Брэггу)
- 67 pm
Ван-дер-ваальсовы радиусы
- Bondi
- 147 pm
- Batsanov
- 150 pm
- Alvarez
- 146 pm
- UFF
- 336,4 pm
- MM3
- 171 pm
- Dreiding
- 347,2 pm
- Rowland–Taylor
- 146 pm
Атомные и металлические радиусы
- Атомный радиус (по Раму)
- 163 pm
Шкалы нумерации
- Mendeleev
- 106
- Pettifor
- 102
- Glawe
- 102
Шкалы электроотрицательности
- Ghosh
- 0
- Gunnarsson–Lundqvist
- 11
- Robles–Bartolotti
- 10
Поляризуемость и дисперсия
- Дипольная поляризуемость
- 3,74 a.u.
- Дипольная поляризуемость (неопределённость)
- 0,08 a.u.
- C₆
- 9,52 Ha·Bohr6
- C₆ (Gould–Bučko)
- 10,2 Ha·Bohr6
Химическое сродство
- Сродство к протону
- 340,1 kJ/mol
- Газофазная основность
- 315,1 kJ/mol
Риски поставок и экономика
- Концентрация производства
- 56
- Относительный риск поставок
- 7
- Распределение запасов
- 17
- Политическая стабильность (ведущий производитель)
- 24
- Политическая стабильность (страна с крупнейшими запасами)
- 44
Фазовые переходы и аллотропные модификации
| Температура плавления | 53,48 K |
| Температура кипения | 85,04 K |
| Критическая точка (температура) | 144,41 K |
| Критическая точка (давление) | 5,17 MPa |
| Тройная точка (температура) | 53,48 K |
| Тройная точка (давление) | 90 kPa |
Категории степеней окисления
Расширенные справочные данные
Константы экранирования (3)
| n | Орбиталь | σ |
|---|---|---|
| 1 | s | 0,3499 |
| 2 | p | 3,9 |
| 2 | s | 3,8724 |
Подробные данные о кристаллических радиусах (5)
| Заряд | CN | Спин | rcrystal (pm) | Происхождение |
|---|---|---|---|---|
| -1 | II | 114,5 | ||
| -1 | III | 116 | ||
| -1 | IV | 117 | ||
| -1 | VI | 119 | ||
| 7 | VI | 22 | Ahrens (1952) ionic radius, |
Типы распада изотопов (31)
| Изотоп | Режим | Интенсивность |
|---|---|---|
| 13 | p | — |
| 14 | p | — |
| 15 | p | 100% |
| 16 | p | 100% |
| 17 | B+ | 100% |
| 18 | B+ | 100% |
| 20 | B- | 100% |
| 21 | B- | 100% |
| 22 | B- | 100% |
| 22 | B-n | 11% |
Факторы рассеяния рентгеновского излучения (502)
| Энергия (eV) | f₁ | f₂ |
|---|---|---|
| 10 | — | 0,05165 |
| 10,1617 | — | 0,05648 |
| 10,3261 | — | 0,06176 |
| 10,4931 | — | 0,06754 |
| 10,6628 | — | 0,07386 |
| 10,8353 | — | 0,08077 |
| 11,0106 | — | 0,08833 |
| 11,1886 | — | 0,09659 |
| 11,3696 | — | 0,10831 |
| 11,5535 | — | 0,12462 |
Дополнительные данные
Оценочная распространённость в земной коре
The estimated element abundance in the earth's crust.
Оценочная распространённость в земной коре
5.85×102 milligrams per kilogram
Источники (1)
- [5] Fluorine https://education.jlab.org/itselemental/ele009.html
Оценочная распространённость в океане
The estimated element abundance in the earth's oceans.
Оценочная распространённость в океане
1.3 milligrams per liter
Источники (1)
- [5] Fluorine https://education.jlab.org/itselemental/ele009.html
Источники
(9)
Data deposited in or computed by PubChem
The half-life and atomic mass data was provided by the Atomic Mass Data Center at the International Atomic Energy Agency.
Element data are cited from the Atomic weights of the elements (an IUPAC Technical Report). The IUPAC periodic table of elements can be found at https://iupac.org/what-we-do/periodic-table-of-elements/. Additional information can be found within IUPAC publication doi:10.1515/pac-2015-0703 Copyright © 2020 International Union of Pure and Applied Chemistry.
The information are cited from Pure Appl. Chem. 2018; 90(12): 1833-2092, https://doi.org/10.1515/pac-2015-0703.
Thomas Jefferson National Accelerator Facility (Jefferson Lab) is one of 17 national laboratories funded by the U.S. Department of Energy. The lab's primary mission is to conduct basic research of the atom's nucleus using the lab's unique particle accelerator, known as the Continuous Electron Beam Accelerator Facility (CEBAF). For more information visit https://www.jlab.org/
The periodic table at the LANL (Los Alamos National Laboratory) contains basic element information together with the history, source, properties, use, handling and more. The provenance data may be found from the link under the source name.
The periodic table contains NIST's critically-evaluated data on atomic properties of the elements. The provenance data that include data for atomic spectroscopy, X-ray and gamma ray, radiation dosimetry, nuclear physics, and condensed matter physics may be found from the link under the source name. Ref: https://www.nist.gov/pml/atomic-spectra-database
This section provides all form of data related to element Fluorine.
The element property data was retrieved from publications.