Кремний (Si)
ПолуметаллТвёрдое тело
Стандартный атомный вес
28.085 u [28,084, 28,086]Электронная конфигурация
[Ne] 3s2 3p2Температура плавления
1413.85 °C (1687 K)Температура кипения
3264.85 °C (3538 K)Плотность
2329.6 kg/m³Степени окисления
−4, −3, −2, −1, 0, +1, +2, +3, +4Электроотрицательность (Полинг)
1.9Энергия ионизации (1-я)
Год открытия
1824Атомный радиус
110 pmДополнительно
Кремний — твердый, хрупкий металлоид группы 14. В большинстве соединений он тетравалентен и образует прочные связи с кислородом, вследствие чего силикатные минералы доминируют в земной коре. Элементарный кремний занимает центральное место в современной электронике, поскольку его оксид, диоксид кремния, можно выращивать как стабильный изолирующий слой. В объемной химии он менее реакционноспособен, чем углерод, при обычных температурах, но растворяется или реагирует в сильнощелочных, окислительных или высокотемпературных условиях.
Кристаллический кремний имеет металлический блеск и сероватую окраску. Кремний — относительно инертный элемент, однако он подвергается действию галогенов и разбавленных щелочей. Большинство кислот, за исключением плавиковой, на него не действуют. Элементарный кремний пропускает более 95% всех длин волн инфракрасного излучения, от 1,3 до 6.y micro-m.
Название происходит от латинских silex и silicis, означающих «кремень». Аморфный кремний был открыт шведским химиком Йёнсом Якобом Берцелиусом в 1824 году. Кристаллический кремний впервые был получен французским химиком Анри Сент-Клером Девилем в 1854 году.
Кремний был открыт Йёнсом Якобом Берцелиусом, шведским химиком, в 1824 году путем нагревания крошек калия в емкости из кремнезема с последующим тщательным удалением остаточных побочных продуктов. Кремний — седьмой по распространенности элемент во Вселенной и второй по распространенности элемент земной коры. Сегодня кремний получают путем нагревания песка (SiO2) с углеродом до температур, приближающихся к 2200°C.
От лат. слова silex, silicis, кремень. В 1800 году Дэви считал кремнезем соединением, а не элементом; однако в 1811 году Гей-Люссак и Тенар, вероятно, получили нечистый аморфный кремний путем нагревания калия с тетрафторидом кремния.
В 1824 году Берцелиус, которому обычно приписывают открытие, получил аморфный кремний тем же общим методом и очистил продукт, удаляя флюосиликаты путем многократных промываний. Девиль в 1854 году впервые получил кристаллический кремний, вторую аллотропную форму элемента.
Изображения
Свойства
Физические
Химические
Термодинамические
Ядерные
Распространённость
Реакционная способность
N/A
Кристаллическая структура
Электронная структура
Идентификаторы
Электронная конфигурация Measured
Si: 3s² 3p²[Ne] 3s² 3p²1s² 2s² 2p⁶ 3s² 3p²Модель атома
Изотопы меняют число нейтронов, массу и стабильность — но не электронную конфигурацию нейтрального атома.
Схематическая модель атома, не в масштабе.
Атомный отпечаток
Спектр испускания / поглощения
Распределение изотопов
| Массовое число | Атомная масса (а.е.м.) | Природная распространённость | Период полураспада |
|---|---|---|---|
| 28 Стабильный | 27,97692653465 ± 0,00000000044 | 92.2230% | Стабильный |
| 29 Стабильный | 28,9764946649 ± 0,00000000052 | 4.6850% | Стабильный |
| 30 Стабильный | 29,973770136 ± 0,000000023 | 3.0920% | Стабильный |
Фазовое состояние
Причина: на 1388.8 °C ниже точки плавления (1413.85 °C)
Схематично, не в масштабе
Точки фазовых переходов
Энергии переходов
Энергия для плавления 1 моля при tплав
Энергия для испарения 1 моля при tкип
Энергия для возгонки 1 моля при tвозг
Плотность
При нормальных условиях
При нормальных условиях
Атомные спектры
Показано 10 из 14 Атомные спектры. Сортировка по заряду иона (по возрастанию).
Состав спектральных линий ?
| Ion | Заряд | Total lines | Transition probabilities | Level designations |
|---|---|---|---|---|
| Si I | 0 | 754 | 639 | 640 |
| Si II | +1 | 590 | 474 | 474 |
| Si III | +2 | 1298 | 1288 | 1288 |
| Si IV | +3 | 332 | 314 | 314 |
| Si V | +4 | 151 | 143 | 143 |
| Si VI | +5 | 346 | 346 | 346 |
| Si VII | +6 | 233 | 233 | 233 |
| Si VIII | +7 | 269 | 269 | 269 |
| Si IX | +8 | 366 | 366 | 366 |
| Si X | +9 | 315 | 315 | 315 |
Состав энергетических уровней ?
| Ion | Заряд | Levels |
|---|---|---|
| Si I | 0 | 542 |
| Si II | +1 | 151 |
| Si III | +2 | 189 |
| Si IV | +3 | 55 |
| Si V | +4 | 99 |
| Si VI | +5 | 72 |
| Si VII | +6 | 65 |
| Si VIII | +7 | 60 |
| Si IX | +8 | 67 |
| Si X | +9 | 55 |
Ионные радиусы
| Заряд | Координация | Спин | Радиус |
|---|---|---|---|
| +4 | 4 | N/A | 26 пм |
| +4 | 6 | N/A | 40 пм |
Соединения
Изотопы (3)
| Массовое число | Атомная масса (а.е.м.) | Природная распространённость | Период полураспада | Режим распада | |
|---|---|---|---|---|---|
| 28 Стабильный | 27,97692653465 ± 0,00000000044 | 92.2230% ± 0.0190% | Стабильный | stable | |
| 29 Стабильный | 28,9764946649 ± 0,00000000052 | 4.6850% ± 0.0080% | Стабильный | stable | |
| 30 Стабильный | 29,973770136 ± 0,000000023 | 3.0920% ± 0.0110% | Стабильный | stable |
Спектральные линии
Показано 50 из 474 Спектральные линии. По умолчанию показаны только спектральные линии с измеренной интенсивностью.
| Длина волны (нм) | Интенсивность | Стадия ионизации | Тип | Переход | Точность | Источник | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 504.1024 нм | 1000 | Si II | emission | 3s2.4p 2P* → 3s2.4d 2D | Измерено | NIST | |
| 505.5984 нм | 1000 | Si II | emission | 3s2.4p 2P* → 3s2.4d 2D | Измерено | NIST | |
| 634.711 нм | 1000 | Si II | emission | 3s2.4s 2S → 3s2.4p 2P* | Измерено | NIST | |
| 637.137 нм | 1000 | Si II | emission | 3s2.4s 2S → 3s2.4p 2P* | Измерено | NIST | |
| 595.756 нм | 500 | Si II | emission | 3s2.4p 2P* → 3s2.5s 2S | Измерено | NIST | |
| 597.893 нм | 500 | Si II | emission | 3s2.4p 2P* → 3s2.5s 2S | Измерено | NIST | |
| 390.55231 нм | 300 | Si I | emission | 3s2.3p2 1S → 3s2.3p.4s 1P* | Измерено | NIST | |
| 594.8541 нм | 200 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 1P* → 3s2.3p.5p 1D | Измерено | NIST | |
| 700.3569 нм | 180 | Si I | emission | 3s2.3p.4p 3D → 3s2.3p.6d 3F* | Измерено | NIST | |
| 700.588 нм | 180 | Si I | emission | 3s2.3p.4p 3D → 3s2.3p.6d 3F* | Измерено | NIST | |
| 570.84 нм | 160 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3P | Измерено | NIST | |
| 462.1722 нм | 150 | Si II | emission | 3s2.4d 2D → 3s2.7f 2F* | Измерено | NIST | |
| 568.4484 нм | 120 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3S | Измерено | NIST | |
| 462.1418 нм | 100 | Si II | emission | 3s2.4d 2D → 3s2.7f 2F* | Измерено | NIST | |
| 569.0425 нм | 100 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3P | Измерено | NIST | |
| 579.7856 нм | 100 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3D | Измерено | NIST | |
| 667.184 нм | 100 | Si II | emission | 3s.3p.(3P*).4s 4P* → 3s.3p.(3P*).4p 4D | Измерено | NIST | |
| 672.1848 нм | 100 | Si I | emission | 3s2.3p.4p 1P → 3s2.3p.6d 1D* | Измерено | NIST | |
| 564.5613 нм | 90 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3P | Измерено | NIST | |
| 570.1104 нм | 90 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3P | Измерено | NIST | |
| 579.3073 нм | 90 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3D | Измерено | NIST | |
| 479.2324 нм | 80 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.(2P*<3/2>).6p<1/2> (3/2,1/2) | Измерено | NIST | |
| 566.5555 нм | 80 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3P | Измерено | NIST | |
| 697.651 нм | 80 | Si I | emission | 3s2.3p.4p 3D → 3s2.3p.6d 3F* | Измерено | NIST | |
| 410.29359 нм | 70 | Si I | emission | 3s2.3p2 1S → 3s2.3p.4s 3P* | Измерено | NIST | |
| 577.2146 нм | 70 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 1P* → 3s2.3p.5p 1S | Измерено | NIST | |
| 578.0384 нм | 70 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3D | Измерено | NIST | |
| 719.355 нм | 65 | Si I | emission | 3s2.3p.4p 3P → 3s2.3p.6d 3D* | Измерено | NIST | |
| 478.2991 нм | 50 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.(2P*<3/2>).6p<1/2> (3/2,1/2) | Измерено | NIST | |
| 682.983 нм | 50 | Si II | emission | 3s2.5p 2P* → 3s2.6d 2D | Измерено | NIST | |
| 575.4218 нм | 45 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3P | Измерено | NIST | |
| 633.1956 нм | 45 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 1P* → 3s2.3p.5p 1P | Измерено | NIST | |
| 655.5463 нм | 45 | Si I | emission | 3s2.3p.4p 3D → 3s2.3p.7d 3F* | Измерено | NIST | |
| 500.6059 нм | 40 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 1P* → 3s2.3p.(2P*<3/2>).6p<3/2> (3/2,3/2) | Измерено | NIST | |
| 479.2213 нм | 35 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.(2P*<1/2>).6p<1/2> (1/2,1/2) | Измерено | NIST | |
| 380.6526 нм | 30 | Si III | emission | 3s.4p 3P* → 3s.4d 3D | Измерено | NIST | |
| 455.2622 нм | 30 | Si III | emission | 3s.4s 3S → 3s.4p 3P* | Измерено | NIST | |
| 494.7607 нм | 30 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 1P* → 3s2.3p.(2P*<3/2>).6p<3/2> (3/2,3/2) | Измерено | NIST | |
| 562.222 нм | 30 | Si I | emission | 3s2.3p.4s 3P* → 3s2.3p.5p 3S | Измерено | NIST | |
| 681.841 нм | 30 | Si II | emission | 3s2.5p 2P* → 3s2.6d 2D | Измерено | NIST | |
| 456.784 нм | 25 | Si III | emission | 3s.4s 3S → 3s.4p 3P* | Измерено | NIST | |
| 392.4468 нм | 20 | Si III | emission | 3s.4f 1F* → 3s.5g 1G | Измерено | NIST | |
| 457.4757 нм | 20 | Si III | emission | 3s.4s 3S → 3s.4p 3P* | Измерено | NIST | |
| 573.973 нм | 20 | Si III | emission | 3s.4s 1S → 3s.4p 1P* | Измерено | NIST | |
| 669.94 нм | 20 | Si II | emission | 3s.3p.(3P*).4s 4P* → 3s.3p.(3P*).4p 4D | Измерено | NIST | |
| 482.895 нм | 18 | Si III | emission | 3s.4f 3F* → 3s.5g 3G | Измерено | NIST | |
| 471.6654 нм | 16 | Si III | emission | 3s.4d 1D → 3s.5f 1F* | Измерено | NIST | |
| 481.9712 нм | 16 | Si III | emission | 3s.4f 3F* → 3s.5g 3G | Измерено | NIST | |
| 481.3333 нм | 15 | Si III | emission | 3s.4f 3F* → 3s.5g 3G | Измерено | NIST | |
| 666.503 нм | 15 | Si II | emission | 3s.3p.(3P*).4s 4P* → 3s.3p.(3P*).4p 4D | Измерено | NIST |
Расширенные свойства
Ковалентные радиусы (расш.)
Радиусы Ван-дер-Ваальса
Атомные и металлические радиусы
Шкалы нумерации
Шкалы электроотрицательности
Поляризуемость и дисперсия
Химическое сродство
Параметры Мидемы
Фазовые переходы и аллотропы
| Температура плавления | 1687.15 K |
| Температура кипения | 3538.15 K |
Категории степеней окисления
Расширенные справочные данные
Константы экранирования (5)
| n | Орбиталь | σ |
|---|---|---|
| 1 | s | 0.4255 |
| 2 | p | 4.055 |
| 2 | s | 4.98 |
| 3 | p | 9.7148 |
| 3 | s | 9.0968 |
Детализация кристаллических радиусов (2)
| Заряд | CN | Спин | rcrystal (pm) | Источник |
|---|---|---|---|---|
| 4 | IV | 40 | ||
| 4 | VI | 54 | from r^3 vs V plots, |
Режимы распада изотопов (46)
| Изотоп | Режим | Интенсивность |
|---|---|---|
| 22 | B+ | 100% |
| 22 | B+p | 62% |
| 22 | 2p | 0.7% |
| 23 | B+ | 100% |
| 23 | B+p | 88% |
| 23 | 2p | 3.6% |
| 24 | B+ | 100% |
| 24 | B+p | 34.5% |
| 25 | B+ | 100% |
| 25 | B+p | 35% |
Факторы рассеяния X‑лучей (756)
| Энергия (eV) | f₁ | f₂ |
|---|---|---|
| 10 | — | 3.94851 |
| 10.1617 | — | 3.95531 |
| 10.3261 | — | 3.96212 |
| 10.4931 | — | 3.96894 |
| 10.6628 | — | 3.97577 |
| 10.8353 | — | 3.98262 |
| 11.0105 | — | 3.98948 |
| 11.1886 | — | 3.99635 |
| 11.3696 | — | 4.00322 |
| 11.5535 | — | 4.01012 |
Дополнительные данные
Estimated Crustal Abundance
The estimated element abundance in the earth's crust.
2.82×105 milligrams per kilogram
Источники (1)
Estimated Oceanic Abundance
The estimated element abundance in the earth's oceans.
2.2 milligrams per liter
Источники (1)
Sources
Sources of this element.
Silicon is present in the sun and stars and is a principal component of a class of meteorites known as aerolites. It is also a component of tektites, a natural glass of uncertain origin.
Silicon makes up 25.7% of the earth's crust, by weight, and is the second most abundant element, being exceeded only by oxygen. Silicon is not found free in nature, but occurs chiefly as the oxide and as silicates. Sand, quartz, rock crystal, amethyst, agate, flint, jasper, and opal are some of the forms in which the oxide appears. Granite, hornblende, asbestos, feldspar, clay, mica, etc. are but a few of the numerous silicate minerals.
Silicon is prepared commercially by heating silica and carbon in an electric furnace, using carbon electrodes. Several other methods can be used for preparing the element. Amorphous silicon can be prepared as a brown powder, which can be easily melted or vaporized. The Czochralski process is commonly used to produce single crystals of silicon used for solid-state or semiconductor devices. Hyperpure silicon can be prepared by the thermal decomposition of ultra-pure trichlorosilane in a hydrogen atmosphere, and by a vacuum float zone process.
Источники (1)
- [6] Silicon https://periodic.lanl.gov/14.shtml
Источники
(9)
Data deposited in or computed by PubChem
The half-life and atomic mass data was provided by the Atomic Mass Data Center at the International Atomic Energy Agency.
Element data are cited from the Atomic weights of the elements (an IUPAC Technical Report). The IUPAC periodic table of elements can be found at https://iupac.org/what-we-do/periodic-table-of-elements/. Additional information can be found within IUPAC publication doi:10.1515/pac-2015-0703 Copyright © 2020 International Union of Pure and Applied Chemistry.
The information are cited from Pure Appl. Chem. 2018; 90(12): 1833-2092, https://doi.org/10.1515/pac-2015-0703.
Thomas Jefferson National Accelerator Facility (Jefferson Lab) is one of 17 national laboratories funded by the U.S. Department of Energy. The lab's primary mission is to conduct basic research of the atom's nucleus using the lab's unique particle accelerator, known as the Continuous Electron Beam Accelerator Facility (CEBAF). For more information visit https://www.jlab.org/
The periodic table at the LANL (Los Alamos National Laboratory) contains basic element information together with the history, source, properties, use, handling and more. The provenance data may be found from the link under the source name.
The periodic table contains NIST's critically-evaluated data on atomic properties of the elements. The provenance data that include data for atomic spectroscopy, X-ray and gamma ray, radiation dosimetry, nuclear physics, and condensed matter physics may be found from the link under the source name. Ref: https://www.nist.gov/pml/atomic-spectra-database
This section provides all form of data related to element Silicon.
The element property data was retrieved from publications.

