Fluorine (F)
halogenGas
Стандартна відносна атомна маса
18,998403 uЕлектронна конфігурація
[He] 2s2 2p5Температура плавлення
-219,62 °CТемпература кипіння
-188,12 °CГустина
1,696 kg/m³Ступені окиснення
-1Електронегативність (за Полінгом)
3,98Енергія йонізації (1-ша)
17,42282 eVРік відкриття
1886Атомний радіус
50 pmВідомості
Fluorine is the lightest halogen and the most electronegative chemical element. In elemental form it occurs as diatomic fluorine, F₂, a highly reactive oxidizing gas. Natural fluorine is almost entirely the stable isotope ¹⁹F and is found in minerals rather than as the free element. Its chemistry underlies fluoride minerals, uranium enrichment chemistry, fluoropolymers, refrigerants, many agrochemicals, and a large share of modern medicinal chemistry.
Fluorine is the most electronegative and reactive of all elements. It is a pale yellow, corrosive gas, which reacts with most organic and inorganic substances. Finely divided metals, glass, ceramics, carbon, and even water burn in fluorine with a bright flame.
Until World War II, there was no commercial production of elemental fluorine. The nuclear bomb project and nuclear energy applications, however, made it necessary to produce large quantities.
The name derives from the Latin fluere for "flow" or "flux" because fluorite (CaF2) was used as a flux in metallurgy owing to its low melting point. It was discovered in hydrofluoric acid by the Swedish pharmacist and chemist Carl-Wilhelm Scheele in 1771, but it was not isolated until 1886 by the French pharmacist and chemist Henri Moissan.
Fluorine is the most reactive of all elements and no chemical substance is capable of freeing fluorine from any of its compounds. For this reason, fluorine does not occur free in nature and was extremely difficult for scientists to isolate. The first recorded use of a fluorine compound dates to around 1670 to a set of instructions for etching glass that called for Bohemian emerald (CaF2). Chemists attempted to identify the material that was capable of etching glass and George Gore was able to produce a small amount of fluorine through an electrolytic process in 1869. Unknown to Gore, fluorine gas explosively combines with hydrogen gas. That is exactly what happened in Gore's experiment when the fluorine gas that formed on one electrode combined with the hydrogen gas that formed on the other electrode. Ferdinand Frederic Henri Moissan, a French chemist, was the first to successfully isolate fluorine in 1886. He did this through the electrolysis of potassium fluoride (KF) and hydrofluoric acid (HF). He also completely isolated the fluorine gas from the hydrogen gas and he built his electrolysis device completely from platinum. His work was so impressive that he was awarded the Nobel Prize for chemistry in 1906. Today, fluorine is still produced through the electrolysis of potassium fluoride and hydrofluoric acid as well as through the electrolysis of molten potassium acid fluoride (KHF2).
From the Latin and French fluere: flow or flux. In 1529, Georigius Agricola described the use of fluorspar as a flux, and as early as 1670 Schwandhard found that glass was etched when exposed to fluorspar treated with acid. Scheele and many later investigators, including Davy, Gay-Lussac, Lavoisier, and Thenard, experimented with hydrofluoric acid, some experiments ending tragically.
The element was finally isolated in 1866 by Moissan after nearly 74 years of continuous effort.
Pure fluorine, F₂, is a pale yellow gas at ordinary temperature and pressure. It condenses to a yellow liquid and freezes to a pale solid at low temperature. The gas has a sharp, irritating odor, but odor is not a safe means of detection.
Elemental fluorine, F₂, is used mainly where its extreme oxidizing and fluorinating power is required, including preparation of uranium hexafluoride, UF₆, for isotope separation and manufacture of some specialty inorganic fluorides. Much larger practical importance lies in fluorine-containing compounds. Fluoropolymers such as polytetrafluoroethylene, (C₂F₄)ₙ, are used for chemically resistant coatings, seals, membranes, and electrical insulation. Fluoride compounds are used in glass etching, aluminum production, dental products, pharmaceuticals, and crop-protection chemicals.
Fluorine is added to city water supplies in the proportion of about one part per million to help prevent tooth decay. Sodium fluoride (NaF), stannous(II) fluoride (SnF2) and sodium monofluorophosphate (Na2PO3F) are all fluorine compounds added to toothpaste, also to help prevent tooth decay. Hydrofluoric acid (HF) is used to etch glass, including most of the glass used in light bulbs. Uranium hexafluoride (UF6) is used to separate isotopes of uranium. Crystals of calcium fluoride (CaF2), also known as fluorite and fluorspar, are used to make lenses to focus infrared light. Fluorine joins with carbon to form a class of compounds known as fluorocarbons. Some of these compounds, such as dichlorodifluoromethane (CF2Cl2), were widely used in air conditioning and refrigeration systems and in aerosol spray cans, but have been phased out due to the damage they were causing to the earth's ozone layer.
Fluorine and its compounds are used in producing uranium (from the hexafluoride) and more than 100 commercial fluorochemicals, including many high-temperature plastics. Hydrofluoric acid etches glass of light bulbs. Fluorochlorohydrocarbons are extensively used in air conditioning and refrigeration.
The presence of fluorine as a soluble fluoride in drinking water to the extent of 2 ppm may cause mottled enamel in teeth when used by children acquiring permanent teeth; in smaller amounts, however, fluoride helps prevent dental cavities.
Elemental fluorine has been studied as a rocket propellant as it has an exceptionally high specific impulse value.
Isotopes in Medicine
18F is a radioactive fluorine isotope that is used in an 18F-FDG compound (18F-labeled, fluoro-deoxy glucose) for imaging the organs, bones, tissues, and brain of the body with a technique called positron emission topography (PET). The 18F-FDG compound is injected and the isotopically labeled glucose is consumed by any cell requiring glucose as a source of energy [98] R. Krebs. The History And Use Of Our Earth’s Chemical Elements: A Reference Guide, 2nd ed. Greenwood Press, Westport, CT (2006)., [99] World Nuclear Association. Radioisotopes in Medicine, World Nuclear Association (2014), Feb. 23; http://www.world-nuclear.org/info/inf55.html..
– 18F emits positrons that collect in tissue and interact with regular negative electrons when injected into the body. The positrons and electrons annihilate each other, producing two gamma rays that are emitted in opposite directions. The radiation is detected on a PET camera, which generates a picture of the body part being examined (Fig. IUPAC.9.1).
–Because 18F has a short half-life of about 110 min, there is little chance of radiation damage to the patient.
Fluorine most commonly has oxidation state −1 in compounds, as in hydrogen fluoride, HF, sodium fluoride, NaF, and calcium fluoride, CaF₂. With highly electropositive elements it forms ionic fluorides; with nonmetals it forms strongly covalent fluorides such as sulfur hexafluoride, SF₆, and silicon tetrafluoride, SiF₄. Fluorine can also form interhalogen compounds, including chlorine trifluoride, ClF₃. Oxygen fluorides such as oxygen difluoride, OF₂, are unusual because fluorine is assigned the negative oxidation state while oxygen is positive.
One hypothesis says that fluorine can be substituted for hydrogen wherever it occurs in organic compounds, which could lead to an astronomical number of new fluorine compounds. Compounds of fluorine with rare gases have now been confirmed in fluorides of xenon, radon, and krypton.
See more information at the Fluorine compound page.
Elemental fluorine, F₂, is acutely toxic, corrosive, and a powerful oxidizer that can ignite or violently react with many materials. Hydrogen fluoride, HF, is especially hazardous because it penetrates tissue and binds calcium and magnesium ions. Soluble fluorides can be toxic at sufficient dose, while controlled low concentrations of fluoride ion, F⁻, have dental uses. Some fluorinated gases are chemically stable but may be asphyxiants or potent greenhouse gases.
Elemental fluorine and the fluoride ion are highly toxic. The free element has a characteristic pungent odor, detectable in concentrations as low as 20 ppb, which is below the safe working level. The recommended maximum allowable concentration for a daily 8-hour time-weighted exposure is 1 ppm.
Fluorine enters the environment chiefly as fluoride in minerals, volcanic emissions, sea spray, industrial releases, and weathering products. Fluoride ion, F⁻, binds to calcium, aluminum, and iron phases and can be immobilized in soils or sediments, though mobility depends strongly on pH and water chemistry. Elevated natural or industrial fluoride in groundwater can affect teeth, bones, livestock, and vegetation. Persistent organofluorine compounds vary widely in mobility and degradation behavior.
Fluorine supply is based primarily on mining fluorite, CaF₂, with smaller contributions from fluorapatite-bearing phosphate rock processed in fertilizer production. Hydrogen fluoride, HF, is the central industrial intermediate, made by treating fluorite with sulfuric acid, H₂SO₄. Direct production and transport of elemental fluorine are limited by its reactivity, so it is commonly generated or consumed close to the point of use. Demand is tied to aluminum smelting, chemical manufacturing, electronics materials, fluoropolymers, and regulated refrigerant transitions. Recycling is important for some fluorinated materials but is often chemically or economically difficult.
Found in the minerals fluorite (CaF2) and cryolite(Na3AlF6). Electrolysis of hydrofluoric acid (HF) or potassium acid fluoride (KHF2) is the only practical method of commercial production.
Fluorine is relatively rare in the cosmos compared with neighboring light elements. It is thought to be made in several settings, including helium-burning regions of evolved stars, neutrino-driven processes in core-collapse supernovae, and possibly novae, with their relative contributions still studied. In planetary materials it is concentrated into minerals, melts, and volatile-bearing phases rather than remaining as free F₂.
- Fluorine has only one stable natural isotope, ¹⁹F.
- Fluorite, CaF₂, gave the element its name through its use as a flux.
- Glass etching by hydrogen fluoride, HF, reflects the strength of silicon-fluorine bonding.
- Polytetrafluoroethylene, (C₂F₄)ₙ, was discovered accidentally during refrigerant research.
- Uranium hexafluoride, UF₆, is volatile enough for gas-phase isotope enrichment.
- Fluoride minerals can preserve fluorine in rocks over geologic time.
Зображення
Властивості
Фізичні
- Атомний радіус (емпіричний)
- 50 pm Порівняти Атомний радіус (емпіричний) усіх елементів →
- Ковалентний радіус
- 57 pm Порівняти Ковалентний радіус усіх елементів →
- Радіус ван дер Ваальса
- 135 pm Порівняти Радіус ван дер Ваальса усіх елементів →
- Густина
- 1,696 kg/m³ Порівняти Густина усіх елементів →
- Молярний об’єм
- 0,0171 L/mol
- Фаза за стандартних температури й тиску
- Газ Порівняти Фаза за стандартних температури й тиску усіх елементів →
- Температура плавлення
- -219,62 °C Порівняти Температура плавлення усіх елементів →
- Температура кипіння
- -188,12 °C Порівняти Температура кипіння усіх елементів →
- Теплопровідність
- 0,028 Вт/(м·K) Порівняти Теплопровідність усіх елементів →
- Питома теплоємність
- 0,824 Дж/(г·K) Порівняти Питома теплоємність усіх елементів →
- Молярна теплоємність
- 31,304 Дж/(моль·K) Порівняти Молярна теплоємність усіх елементів →
- Кристалічна структура
- Моноклінна Порівняти Кристалічна структура усіх елементів →
Хімічні
- Електронегативність (за Полінгом)
- 3,98 Порівняти Електронегативність (за Полінгом) усіх елементів →
- Електронегативність (за Алленом)
- 4,193
- Спорідненість до електрона
- 3,4011 eV
- Енергія йонізації (1-ша)
- 17,42282 eV Порівняти Енергія йонізації (1-ша) усіх елементів →
- Енергія йонізації (2-га)
- 34,97093 eV Порівняти Енергія йонізації (2-га) усіх елементів →
- Енергія йонізації (3-тя)
- 62,708196 eV Порівняти Енергія йонізації (3-тя) усіх елементів →
- Енергія йонізації (4-та)
- 87,1753 eV Порівняти Енергія йонізації (4-та) усіх елементів →
- Енергія йонізації (5-та)
- 114,249393 eV Порівняти Енергія йонізації (5-та) усіх елементів →
- Ступені окиснення
- -1 Порівняти Ступені окиснення усіх елементів →
- Валентні електрони
- 7 Порівняти Валентні електрони усіх елементів →
- Електронна конфігурація
- [He] 2s2 2p5
Термодинамічні
- Потрійна точка (температура)
- -219,67 °C
- Потрійна точка (тиск)
- 9e+4 Pa
- Критична точка (температура)
- -128,74 °C
- Критична точка (тиск)
- 5,1724e+6 Pa
- Теплота плавлення
- 0,0026429 eV Порівняти Теплота плавлення усіх елементів →
- Теплота випаровування
- 0,06778256 eV Порівняти Теплота випаровування усіх елементів →
- Теплота атомізації
- 0,8228222 eV
- Ентальпія атомізації
- 0,82225216 eV
Ядерні
- Протони
- 9 Порівняти Протони усіх елементів →
- Нейтрони
- 10 Порівняти Нейтрони усіх елементів →
- Відомі ізотопи
- 19 Порівняти Відомі ізотопи усіх елементів →
- Стабільні ізотопи
- 1 Порівняти Стабільні ізотопи усіх елементів →
- Найстабільніший ізотоп
- F-19
- Рік відкриття
- 1886
Поширеність
- Вміст (земна кора)
- 585 мг/кг Порівняти Вміст (земна кора) усіх елементів →
- Вміст (океан)
- 1,3 мг/л Порівняти Вміст (океан) усіх елементів →
Кристалічна структура
Немає даних
Електронна будова
- Електрони за оболонками
- 2, 7 Порівняти Електрони за оболонками усіх елементів →
Ідентифікатори
- Номер CAS
- 7782-41-4 Порівняти Номер CAS усіх елементів →
- Символ терма
- 2P°3/2
- InChI
- InChI=1S/F
- Ключ InChI
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N
Електронна конфігурація Виміряно
F: 2s² 2p⁵[He] 2s² 2p⁵1s² 2s² 2p⁵Модель атома
Ізотопи відрізняються кількістю нейтронів, масою та стабільністю, але не електронною конфігурацією нейтрального атома.
Схематична модель атома, без дотримання масштабу.
Атомний відбиток
Спектр випромінювання / поглинання
Ізотопний розподіл
| Масове число | Атомна маса (u) | Природний вміст | Період напіврозпаду |
|---|---|---|---|
| 19 Стабільний | 18,99840316273 ± 0,00000000092 | 100,0000% | Стабільний |
Фаза / стан
Причина: на 213,1 °C вище температури кипіння (-188,12 °C)
Схематично, без дотримання масштабу
Точки фазових переходів
Енергії переходів
Енергія, необхідна для плавлення 1 моль за температури плавлення
Енергія, необхідна для випаровування 1 моль за температури кипіння
Густина
За стандартних умов
Оцінено за рівнянням стану ідеального газу за поточної T
Розширені дані
Атомні спектри
Наявні дані про лінії ?
| Йон | Заряд | Загальна кількість ліній | Імовірності переходів | Позначення рівнів |
|---|---|---|---|---|
| F I | 0 | 162 | 120 | 162 |
| F II | +1 | 150 | 67 | 67 |
| F III | +2 | 141 | 34 | 34 |
| F IV | +3 | 75 | 30 | 30 |
| F V | +4 | 513 | 472 | 472 |
| F VI | +5 | 269 | 269 | 269 |
| F VII | +6 | 470 | 439 | 470 |
| F VIII | +7 | 128 | 128 | 128 |
| F IX | +8 | 137 | 137 | 137 |
Наявні дані про рівні ?
| Йон | Заряд | Рівні |
|---|---|---|
| F I | 0 | 303 |
| F II | +1 | 291 |
| F III | +2 | 278 |
| F IV | +3 | 170 |
| F V | +4 | 138 |
| F VI | +5 | 100 |
| F VII | +6 | 77 |
| F VIII | +7 | 151 |
| F IX | +8 | 149 |
Йонні радіуси
| Заряд | Координація | Спін | Радіус |
|---|---|---|---|
| -1 | 2 | Немає даних | 128.5 пм |
| -1 | 3 | Немає даних | 130 пм |
| -1 | 4 | Немає даних | 131 пм |
| -1 | 6 | Немає даних | 133 пм |
| +7 | 6 | Немає даних | 8 пм |
Сполуки
Ізотопи (1)
| Масове число | Атомна маса (u) | Природний вміст | Період напіврозпаду | Тип розпаду | |
|---|---|---|---|---|---|
| 19 Стабільний | 18,99840316273 ± 0,00000000092 | 100,0000% | Стабільний | stable |
Спектральні лінії
| Довжина хвилі (нм) | Інтенсивність | Ступінь йонізації | Тип | Перехід | Точність | Джерело | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 383.22 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 2F* → 2p2.(1D).3d 2D | Виміряно | NIST | |
| 384.7086 нм | 270 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | Виміряно | NIST | |
| 384.9985 нм | 260 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | Виміряно | NIST | |
| 385.1668 нм | 250 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | Виміряно | NIST | |
| 385.69 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3s 1S → 1s2.2s.3p 3P* | Виміряно | NIST | |
| 385.712 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 387.086 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 388.508 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Виміряно | NIST | |
| 388.6 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | Виміряно | NIST | |
| 388.6 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | Виміряно | NIST | |
| 388.6 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | Виміряно | NIST | |
| 389.2 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | Виміряно | NIST | |
| 389.2 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | Виміряно | NIST | |
| 389.2 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | Виміряно | NIST | |
| 390.229 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 390.45 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Виміряно | NIST | |
| 394.51 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | Виміряно | NIST | |
| 394.51 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | Виміряно | NIST | |
| 394.51 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | Виміряно | NIST | |
| 394.518 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Виміряно | NIST | |
| 394.736 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Виміряно | NIST | |
| 396.08 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Виміряно | NIST | |
| 396.113 нм | Немає даних | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Виміряно | NIST | |
| 399.6 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | Виміряно | NIST | |
| 399.6 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | Виміряно | NIST | |
| 399.6 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | Виміряно | NIST | |
| 399.692 нм | Немає даних | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Виміряно | NIST | |
| 399.692 нм | Немає даних | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Виміряно | NIST | |
| 400.26 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Виміряно | NIST | |
| 400.942 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | Виміряно | NIST | |
| 402.4726 нм | 240 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | Виміряно | NIST | |
| 402.501 нм | 220 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | Виміряно | NIST | |
| 402.5491 нм | 230 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | Виміряно | NIST | |
| 405.99 нм | Немає даних | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Виміряно | NIST | |
| 405.99 нм | Немає даних | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | Виміряно | NIST | |
| 410.3075 нм | 190 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 410.3213 нм | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 410.3506 нм | 200 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 410.3713 нм | 180 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 410.387 нм | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 410.4008 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 410.916 нм | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Виміряно | NIST | |
| 411.03 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3p 1P* → 1s2.2s.3d 3D | Виміряно | NIST | |
| 411.272 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Виміряно | NIST | |
| 411.2969 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Виміряно | NIST | |
| 411.44 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3p 1P* → 1s2.2s.3d 3D | Виміряно | NIST | |
| 411.6535 нм | 160 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Виміряно | NIST | |
| 411.699 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Виміряно | NIST | |
| 411.8752 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Виміряно | NIST | |
| 411.9207 нм | 150 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | Виміряно | NIST | |
| 415.775 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p4 1D → 2s2.2p4 1S | Виміряно | NIST | |
| 423.3 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Виміряно | NIST | |
| 424.76 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Виміряно | NIST | |
| 426.19 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | Виміряно | NIST | |
| 426.28 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3s 1S → 1s2.2s.3p 1P* | Виміряно | NIST | |
| 427.32 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Виміряно | NIST | |
| 427.94 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | Виміряно | NIST | |
| 429.9165 нм | 200 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 1D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 1F | Виміряно | NIST | |
| 432.27 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Виміряно | NIST | |
| 433.94 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Виміряно | NIST | |
| 435.28 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | Виміряно | NIST | |
| 437.11 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | Виміряно | NIST | |
| 439.05 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | Виміряно | NIST | |
| 444.6527 нм | 160 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Виміряно | NIST | |
| 444.6689 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Виміряно | NIST | |
| 444.6721 нм | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Виміряно | NIST | |
| 444.7117 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Виміряно | NIST | |
| 444.7148 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Виміряно | NIST | |
| 444.7188 нм | 180 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | Виміряно | NIST | |
| 455.99 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 1D → 1s2.2p.3d 1F* | Виміряно | NIST | |
| 456.45 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Виміряно | NIST | |
| 457.45 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Виміряно | NIST | |
| 457.96 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Виміряно | NIST | |
| 459.81 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Виміряно | NIST | |
| 460.57 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Виміряно | NIST | |
| 461.08 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | Виміряно | NIST | |
| 463.41 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.4p 1P → 1s2.2p.4d 1P* | Виміряно | NIST | |
| 478.945 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Виміряно | NIST | |
| 478.945 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Виміряно | NIST | |
| 486.899 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Виміряно | NIST | |
| 486.899 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Виміряно | NIST | |
| 490.456 нм | Немає даних | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | Виміряно | NIST | |
| 507.4 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 507.86 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 509.78 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 510.25 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 511.78 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 515.72 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 517.29 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 517.4 нм | Немає даних | F VIII | emission | 1s.3s 3S → 1s.3p 3P* | Виміряно | NIST | |
| 522.95 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | Виміряно | NIST | |
| 525.1 нм | Немає даних | F VIII | emission | 1s.3s 3S → 1s.3p 3P* | Виміряно | NIST | |
| 528.03 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | Виміряно | NIST | |
| 528.03 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | Виміряно | NIST | |
| 528.03 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | Виміряно | NIST | |
| 528.03 нм | Немає даних | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | Виміряно | NIST | |
| 533.07 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 1S → 1s2.2p.3d 1P* | Виміряно | NIST | |
| 543.21 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 544 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | Виміряно | NIST | |
| 544 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | Виміряно | NIST | |
| 544 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | Виміряно | NIST | |
| 545.91 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 549.84 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 549.99 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 556.76 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 560.85 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | Виміряно | NIST | |
| 568.67 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | Виміряно | NIST | |
| 572.12 нм | Немає даних | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Виміряно | NIST | |
| 572.12 нм | Немає даних | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Виміряно | NIST | |
| 572.15 нм | Немає даних | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Виміряно | NIST | |
| 573.29 нм | Немає даних | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Виміряно | NIST | |
| 573.29 нм | Немає даних | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Виміряно | NIST | |
| 573.32 нм | Немає даних | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Виміряно | NIST | |
| 573.32 нм | Немає даних | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | Виміряно | NIST | |
| 576.14 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | Виміряно | NIST | |
| 585.63 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | Виміряно | NIST | |
| 593.55 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | Виміряно | NIST | |
| 604 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | Виміряно | NIST | |
| 604 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | Виміряно | NIST | |
| 604 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | Виміряно | NIST | |
| 683 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | Виміряно | NIST | |
| 683 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | Виміряно | NIST | |
| 683 нм | Немає даних | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | Виміряно | NIST | |
| 713.8 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | Виміряно | NIST | |
| 719.4 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | Виміряно | NIST | |
| 723.4 нм | Немає даних | F VI | emission | 1s2.2p.4s 1P* → 1s2.2p.4p 1D | Виміряно | NIST | |
| 728.5 нм | Немає даних | F VIII | emission | 1s.3s 1S → 1s.3p 1P* | Виміряно | NIST | |
| 735.8 нм | Немає даних | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | Виміряно | NIST |
Розширені дані про властивості
Ковалентні радіуси (розширені дані)
- Ковалентний радіус (за Пююккьо)
- 64 pm
- Ковалентний радіус (за Пююккьо, подвійний зв’язок)
- 59 pm
- Ковалентний радіус (за Пююккьо, потрійний зв’язок)
- 53 pm
- Ковалентний радіус (за Бреггом)
- 67 pm
Радіуси ван дер Ваальса
- Bondi
- 147 pm
- Batsanov
- 150 pm
- Alvarez
- 146 pm
- UFF
- 336,4 pm
- MM3
- 171 pm
- Dreiding
- 347,2 pm
- Rowland–Taylor
- 146 pm
Атомні та металічні радіуси
- Атомний радіус (за Рамом)
- 163 pm
Шкали нумерації
- Mendeleev
- 106
- Pettifor
- 102
- Glawe
- 102
Шкали електронегативності
- Ghosh
- 0
- Gunnarsson–Lundqvist
- 11
- Robles–Bartolotti
- 10
Поляризовність і дисперсія
- Дипольна поляризовність
- 3,74 a.u.
- Дипольна поляризовність (невизначеність)
- 0,08 a.u.
- C₆
- 9,52 Ha·Bohr6
- C₆ (Gould–Bučko)
- 10,2 Ha·Bohr6
Хімічна спорідненість
- Спорідненість до протона
- 340,1 kJ/mol
- Газофазна основність
- 315,1 kJ/mol
Ризики постачання та економіка
- Концентрація виробництва
- 56
- Відносний ризик постачання
- 7
- Розподіл запасів
- 17
- Політична стабільність (найбільший виробник)
- 24
- Політична стабільність (країна з найбільшими запасами)
- 44
Фазові переходи та алотропні модифікації
| Температура плавлення | 53,48 K |
| Температура кипіння | 85,04 K |
| Критична точка (температура) | 144,41 K |
| Критична точка (тиск) | 5,17 MPa |
| Потрійна точка (температура) | 53,48 K |
| Потрійна точка (тиск) | 90 kPa |
Категорії ступенів окиснення
Розширені довідкові дані
Сталі екранування (3)
| n | Орбіталь | σ |
|---|---|---|
| 1 | s | 0,3499 |
| 2 | p | 3,9 |
| 2 | s | 3,8724 |
Докладні дані про кристалічні радіуси (5)
| Заряд | CN | Спін | rcrystal (pm) | Походження |
|---|---|---|---|---|
| -1 | II | 114,5 | ||
| -1 | III | 116 | ||
| -1 | IV | 117 | ||
| -1 | VI | 119 | ||
| 7 | VI | 22 | Ahrens (1952) ionic radius, |
Типи розпаду ізотопів (31)
| Ізотоп | Режим | Інтенсивність |
|---|---|---|
| 13 | p | — |
| 14 | p | — |
| 15 | p | 100% |
| 16 | p | 100% |
| 17 | B+ | 100% |
| 18 | B+ | 100% |
| 20 | B- | 100% |
| 21 | B- | 100% |
| 22 | B- | 100% |
| 22 | B-n | 11% |
Фактори розсіяння рентгенівського випромінювання (502)
| Енергія (eV) | f₁ | f₂ |
|---|---|---|
| 10 | — | 0,05165 |
| 10,1617 | — | 0,05648 |
| 10,3261 | — | 0,06176 |
| 10,4931 | — | 0,06754 |
| 10,6628 | — | 0,07386 |
| 10,8353 | — | 0,08077 |
| 11,0106 | — | 0,08833 |
| 11,1886 | — | 0,09659 |
| 11,3696 | — | 0,10831 |
| 11,5535 | — | 0,12462 |
Додаткові дані
Estimated Crustal Abundance
The estimated element abundance in the earth's crust.
5.85×102 milligrams per kilogram
Джерела (1)
- [5] Fluorine https://education.jlab.org/itselemental/ele009.html
Estimated Oceanic Abundance
The estimated element abundance in the earth's oceans.
1.3 milligrams per liter
Джерела (1)
- [5] Fluorine https://education.jlab.org/itselemental/ele009.html
Джерела
(9)
Data deposited in or computed by PubChem
The half-life and atomic mass data was provided by the Atomic Mass Data Center at the International Atomic Energy Agency.
Element data are cited from the Atomic weights of the elements (an IUPAC Technical Report). The IUPAC periodic table of elements can be found at https://iupac.org/what-we-do/periodic-table-of-elements/. Additional information can be found within IUPAC publication doi:10.1515/pac-2015-0703 Copyright © 2020 International Union of Pure and Applied Chemistry.
The information are cited from Pure Appl. Chem. 2018; 90(12): 1833-2092, https://doi.org/10.1515/pac-2015-0703.
Thomas Jefferson National Accelerator Facility (Jefferson Lab) is one of 17 national laboratories funded by the U.S. Department of Energy. The lab's primary mission is to conduct basic research of the atom's nucleus using the lab's unique particle accelerator, known as the Continuous Electron Beam Accelerator Facility (CEBAF). For more information visit https://www.jlab.org/
The periodic table at the LANL (Los Alamos National Laboratory) contains basic element information together with the history, source, properties, use, handling and more. The provenance data may be found from the link under the source name.
The periodic table contains NIST's critically-evaluated data on atomic properties of the elements. The provenance data that include data for atomic spectroscopy, X-ray and gamma ray, radiation dosimetry, nuclear physics, and condensed matter physics may be found from the link under the source name. Ref: https://www.nist.gov/pml/atomic-spectra-database
This section provides all form of data related to element Fluorine.
The element property data was retrieved from publications.