Fluorine (F)
halogenGas
ప్రామాణిక పరమాణు భారం
18.998403 uఎలక్ట్రాన్ విన్యాసం
[He] 2s2 2p5ద్రవీభవన స్థానం
-219.62 °Cమరుగు స్థానం
-188.12 °Cసాంద్రత
1.696 kg/m³ఆక్సీకరణ స్థితులు
-1విద్యుదృణాత్మకత (పాలింగ్)
3.98అయనీకరణ శక్తి (1వ)
17.42282 eVఆవిష్కరణ సంవత్సరం
1886పరమాణు వ్యాసార్థం
50 pmవివరాలు
Fluorine is the lightest halogen and the most electronegative chemical element. In elemental form it occurs as diatomic fluorine, F₂, a highly reactive oxidizing gas. Natural fluorine is almost entirely the stable isotope ¹⁹F and is found in minerals rather than as the free element. Its chemistry underlies fluoride minerals, uranium enrichment chemistry, fluoropolymers, refrigerants, many agrochemicals, and a large share of modern medicinal chemistry.
Fluorine is the most electronegative and reactive of all elements. It is a pale yellow, corrosive gas, which reacts with most organic and inorganic substances. Finely divided metals, glass, ceramics, carbon, and even water burn in fluorine with a bright flame.
Until World War II, there was no commercial production of elemental fluorine. The nuclear bomb project and nuclear energy applications, however, made it necessary to produce large quantities.
The name derives from the Latin fluere for "flow" or "flux" because fluorite (CaF2) was used as a flux in metallurgy owing to its low melting point. It was discovered in hydrofluoric acid by the Swedish pharmacist and chemist Carl-Wilhelm Scheele in 1771, but it was not isolated until 1886 by the French pharmacist and chemist Henri Moissan.
Fluorine is the most reactive of all elements and no chemical substance is capable of freeing fluorine from any of its compounds. For this reason, fluorine does not occur free in nature and was extremely difficult for scientists to isolate. The first recorded use of a fluorine compound dates to around 1670 to a set of instructions for etching glass that called for Bohemian emerald (CaF2). Chemists attempted to identify the material that was capable of etching glass and George Gore was able to produce a small amount of fluorine through an electrolytic process in 1869. Unknown to Gore, fluorine gas explosively combines with hydrogen gas. That is exactly what happened in Gore's experiment when the fluorine gas that formed on one electrode combined with the hydrogen gas that formed on the other electrode. Ferdinand Frederic Henri Moissan, a French chemist, was the first to successfully isolate fluorine in 1886. He did this through the electrolysis of potassium fluoride (KF) and hydrofluoric acid (HF). He also completely isolated the fluorine gas from the hydrogen gas and he built his electrolysis device completely from platinum. His work was so impressive that he was awarded the Nobel Prize for chemistry in 1906. Today, fluorine is still produced through the electrolysis of potassium fluoride and hydrofluoric acid as well as through the electrolysis of molten potassium acid fluoride (KHF2).
From the Latin and French fluere: flow or flux. In 1529, Georigius Agricola described the use of fluorspar as a flux, and as early as 1670 Schwandhard found that glass was etched when exposed to fluorspar treated with acid. Scheele and many later investigators, including Davy, Gay-Lussac, Lavoisier, and Thenard, experimented with hydrofluoric acid, some experiments ending tragically.
The element was finally isolated in 1866 by Moissan after nearly 74 years of continuous effort.
Pure fluorine, F₂, is a pale yellow gas at ordinary temperature and pressure. It condenses to a yellow liquid and freezes to a pale solid at low temperature. The gas has a sharp, irritating odor, but odor is not a safe means of detection.
Elemental fluorine, F₂, is used mainly where its extreme oxidizing and fluorinating power is required, including preparation of uranium hexafluoride, UF₆, for isotope separation and manufacture of some specialty inorganic fluorides. Much larger practical importance lies in fluorine-containing compounds. Fluoropolymers such as polytetrafluoroethylene, (C₂F₄)ₙ, are used for chemically resistant coatings, seals, membranes, and electrical insulation. Fluoride compounds are used in glass etching, aluminum production, dental products, pharmaceuticals, and crop-protection chemicals.
Fluorine is added to city water supplies in the proportion of about one part per million to help prevent tooth decay. Sodium fluoride (NaF), stannous(II) fluoride (SnF2) and sodium monofluorophosphate (Na2PO3F) are all fluorine compounds added to toothpaste, also to help prevent tooth decay. Hydrofluoric acid (HF) is used to etch glass, including most of the glass used in light bulbs. Uranium hexafluoride (UF6) is used to separate isotopes of uranium. Crystals of calcium fluoride (CaF2), also known as fluorite and fluorspar, are used to make lenses to focus infrared light. Fluorine joins with carbon to form a class of compounds known as fluorocarbons. Some of these compounds, such as dichlorodifluoromethane (CF2Cl2), were widely used in air conditioning and refrigeration systems and in aerosol spray cans, but have been phased out due to the damage they were causing to the earth's ozone layer.
Fluorine and its compounds are used in producing uranium (from the hexafluoride) and more than 100 commercial fluorochemicals, including many high-temperature plastics. Hydrofluoric acid etches glass of light bulbs. Fluorochlorohydrocarbons are extensively used in air conditioning and refrigeration.
The presence of fluorine as a soluble fluoride in drinking water to the extent of 2 ppm may cause mottled enamel in teeth when used by children acquiring permanent teeth; in smaller amounts, however, fluoride helps prevent dental cavities.
Elemental fluorine has been studied as a rocket propellant as it has an exceptionally high specific impulse value.
Isotopes in Medicine
18F is a radioactive fluorine isotope that is used in an 18F-FDG compound (18F-labeled, fluoro-deoxy glucose) for imaging the organs, bones, tissues, and brain of the body with a technique called positron emission topography (PET). The 18F-FDG compound is injected and the isotopically labeled glucose is consumed by any cell requiring glucose as a source of energy [98] R. Krebs. The History And Use Of Our Earth’s Chemical Elements: A Reference Guide, 2nd ed. Greenwood Press, Westport, CT (2006)., [99] World Nuclear Association. Radioisotopes in Medicine, World Nuclear Association (2014), Feb. 23; http://www.world-nuclear.org/info/inf55.html..
– 18F emits positrons that collect in tissue and interact with regular negative electrons when injected into the body. The positrons and electrons annihilate each other, producing two gamma rays that are emitted in opposite directions. The radiation is detected on a PET camera, which generates a picture of the body part being examined (Fig. IUPAC.9.1).
–Because 18F has a short half-life of about 110 min, there is little chance of radiation damage to the patient.
Fluorine most commonly has oxidation state −1 in compounds, as in hydrogen fluoride, HF, sodium fluoride, NaF, and calcium fluoride, CaF₂. With highly electropositive elements it forms ionic fluorides; with nonmetals it forms strongly covalent fluorides such as sulfur hexafluoride, SF₆, and silicon tetrafluoride, SiF₄. Fluorine can also form interhalogen compounds, including chlorine trifluoride, ClF₃. Oxygen fluorides such as oxygen difluoride, OF₂, are unusual because fluorine is assigned the negative oxidation state while oxygen is positive.
One hypothesis says that fluorine can be substituted for hydrogen wherever it occurs in organic compounds, which could lead to an astronomical number of new fluorine compounds. Compounds of fluorine with rare gases have now been confirmed in fluorides of xenon, radon, and krypton.
See more information at the Fluorine compound page.
Elemental fluorine, F₂, is acutely toxic, corrosive, and a powerful oxidizer that can ignite or violently react with many materials. Hydrogen fluoride, HF, is especially hazardous because it penetrates tissue and binds calcium and magnesium ions. Soluble fluorides can be toxic at sufficient dose, while controlled low concentrations of fluoride ion, F⁻, have dental uses. Some fluorinated gases are chemically stable but may be asphyxiants or potent greenhouse gases.
Elemental fluorine and the fluoride ion are highly toxic. The free element has a characteristic pungent odor, detectable in concentrations as low as 20 ppb, which is below the safe working level. The recommended maximum allowable concentration for a daily 8-hour time-weighted exposure is 1 ppm.
Fluorine enters the environment chiefly as fluoride in minerals, volcanic emissions, sea spray, industrial releases, and weathering products. Fluoride ion, F⁻, binds to calcium, aluminum, and iron phases and can be immobilized in soils or sediments, though mobility depends strongly on pH and water chemistry. Elevated natural or industrial fluoride in groundwater can affect teeth, bones, livestock, and vegetation. Persistent organofluorine compounds vary widely in mobility and degradation behavior.
Fluorine supply is based primarily on mining fluorite, CaF₂, with smaller contributions from fluorapatite-bearing phosphate rock processed in fertilizer production. Hydrogen fluoride, HF, is the central industrial intermediate, made by treating fluorite with sulfuric acid, H₂SO₄. Direct production and transport of elemental fluorine are limited by its reactivity, so it is commonly generated or consumed close to the point of use. Demand is tied to aluminum smelting, chemical manufacturing, electronics materials, fluoropolymers, and regulated refrigerant transitions. Recycling is important for some fluorinated materials but is often chemically or economically difficult.
Found in the minerals fluorite (CaF2) and cryolite(Na3AlF6). Electrolysis of hydrofluoric acid (HF) or potassium acid fluoride (KHF2) is the only practical method of commercial production.
Fluorine is relatively rare in the cosmos compared with neighboring light elements. It is thought to be made in several settings, including helium-burning regions of evolved stars, neutrino-driven processes in core-collapse supernovae, and possibly novae, with their relative contributions still studied. In planetary materials it is concentrated into minerals, melts, and volatile-bearing phases rather than remaining as free F₂.
- Fluorine has only one stable natural isotope, ¹⁹F.
- Fluorite, CaF₂, gave the element its name through its use as a flux.
- Glass etching by hydrogen fluoride, HF, reflects the strength of silicon-fluorine bonding.
- Polytetrafluoroethylene, (C₂F₄)ₙ, was discovered accidentally during refrigerant research.
- Uranium hexafluoride, UF₆, is volatile enough for gas-phase isotope enrichment.
- Fluoride minerals can preserve fluorine in rocks over geologic time.
చిత్రాలు
లక్షణాలు
భౌతిక
- పరమాణు వ్యాసార్థం (అనుభవాధారిత)
- 50 pm అన్ని మూలకాల పరమాణు వ్యాసార్థం (అనుభవాధారిత) పోల్చండి →
- సంయోజనీయ వ్యాసార్థం
- 57 pm అన్ని మూలకాల సంయోజనీయ వ్యాసార్థం పోల్చండి →
- వాన్ డర్ వాల్స్ వ్యాసార్థం
- 135 pm అన్ని మూలకాల వాన్ డర్ వాల్స్ వ్యాసార్థం పోల్చండి →
- సాంద్రత
- 1.696 kg/m³ అన్ని మూలకాల సాంద్రత పోల్చండి →
- మోలార్ ఘనపరిమాణం
- 0.0171 L/mol
- STP వద్ద దశ
- వాయువు అన్ని మూలకాల STP వద్ద దశ పోల్చండి →
- ద్రవీభవన స్థానం
- -219.62 °C అన్ని మూలకాల ద్రవీభవన స్థానం పోల్చండి →
- మరుగు స్థానం
- -188.12 °C అన్ని మూలకాల మరుగు స్థానం పోల్చండి →
- ఉష్ణ వాహకత
- 0.028 W/(m·K) అన్ని మూలకాల ఉష్ణ వాహకత పోల్చండి →
- విశిష్ట ఉష్ణ సామర్థ్యం
- 0.824 J/(g·K) అన్ని మూలకాల విశిష్ట ఉష్ణ సామర్థ్యం పోల్చండి →
- మోలార్ ఉష్ణ సామర్థ్యం
- 31.304 J/(mol·K) అన్ని మూలకాల మోలార్ ఉష్ణ సామర్థ్యం పోల్చండి →
- స్ఫటిక నిర్మాణం
- ఏకవాలాక్ష అన్ని మూలకాల స్ఫటిక నిర్మాణం పోల్చండి →
రసాయన
- విద్యుదృణాత్మకత (పాలింగ్)
- 3.98 అన్ని మూలకాల విద్యుదృణాత్మకత (పాలింగ్) పోల్చండి →
- విద్యుదృణాత్మకత (అలెన్)
- 4.193
- ఎలక్ట్రాన్ బంధుత్వం
- 3.4011 eV
- అయనీకరణ శక్తి (1వ)
- 17.42282 eV అన్ని మూలకాల అయనీకరణ శక్తి (1వ) పోల్చండి →
- అయనీకరణ శక్తి (2వ)
- 34.97093 eV అన్ని మూలకాల అయనీకరణ శక్తి (2వ) పోల్చండి →
- అయనీకరణ శక్తి (3వ)
- 62.708196 eV అన్ని మూలకాల అయనీకరణ శక్తి (3వ) పోల్చండి →
- అయనీకరణ శక్తి (4వ)
- 87.1753 eV అన్ని మూలకాల అయనీకరణ శక్తి (4వ) పోల్చండి →
- అయనీకరణ శక్తి (5వ)
- 114.249393 eV అన్ని మూలకాల అయనీకరణ శక్తి (5వ) పోల్చండి →
- ఆక్సీకరణ స్థితులు
- -1 అన్ని మూలకాల ఆక్సీకరణ స్థితులు పోల్చండి →
- సంయోజక ఎలక్ట్రాన్లు
- 7 అన్ని మూలకాల సంయోజక ఎలక్ట్రాన్లు పోల్చండి →
- ఎలక్ట్రాన్ విన్యాసం
- [He] 2s2 2p5
ఉష్ణగతిక
- త్రిక స్థానం (ఉష్ణోగ్రత)
- -219.67 °C
- త్రిక స్థానం (పీడనం)
- 9e+4 Pa
- సందిగ్ధ స్థానం (ఉష్ణోగ్రత)
- -128.74 °C
- సందిగ్ధ స్థానం (పీడనం)
- 5.1724e+6 Pa
- ద్రవీభవన ఉష్ణం
- 0.0026429 eV అన్ని మూలకాల ద్రవీభవన ఉష్ణం పోల్చండి →
- బాష్పీభవన ఉష్ణం
- 0.06778256 eV అన్ని మూలకాల బాష్పీభవన ఉష్ణం పోల్చండి →
- పరమాణీకరణ ఉష్ణం
- 0.8228222 eV
- పరమాణీకరణ ఎంథాల్పీ
- 0.82225216 eV
కేంద్రక
- ప్రోటాన్లు
- 9 అన్ని మూలకాల ప్రోటాన్లు పోల్చండి →
- న్యూట్రాన్లు
- 10 అన్ని మూలకాల న్యూట్రాన్లు పోల్చండి →
- తెలిసిన సమస్థానికాలు
- 19 అన్ని మూలకాల తెలిసిన సమస్థానికాలు పోల్చండి →
- స్థిరమైన సమస్థానికాలు
- 1 అన్ని మూలకాల స్థిరమైన సమస్థానికాలు పోల్చండి →
- అత్యంత స్థిరమైన సమస్థానికం
- F-19
- ఆవిష్కరణ సంవత్సరం
- 1886
సమృద్ధి
- సమృద్ధి (భూపటలం)
- 585 mg/kg అన్ని మూలకాల సమృద్ధి (భూపటలం) పోల్చండి →
- సమృద్ధి (సముద్రం)
- 1.3 mg/L అన్ని మూలకాల సమృద్ధి (సముద్రం) పోల్చండి →
స్ఫటిక నిర్మాణం
అందుబాటులో లేదు
ఎలక్ట్రానిక్ నిర్మాణం
- ప్రతి కక్ష్యలో ఎలక్ట్రాన్లు
- 2, 7 అన్ని మూలకాల ప్రతి కక్ష్యలో ఎలక్ట్రాన్లు పోల్చండి →
గుర్తింపులు
- CAS సంఖ్య
- 7782-41-4 అన్ని మూలకాల CAS సంఖ్య పోల్చండి →
- టర్మ్ సంకేతం
- 2P°3/2
- InChI
- InChI=1S/F
- InChI కీ
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N
ఎలక్ట్రాన్ విన్యాసం కొలవబడినది
F: 2s² 2p⁵[He] 2s² 2p⁵1s² 2s² 2p⁵పరమాణు నమూనా
సమస్థానికాలు న్యూట్రాన్ల సంఖ్య, ద్రవ్యరాశి, స్థిరత్వాన్ని మారుస్తాయి — తటస్థ పరమాణువు యొక్క ఎలక్ట్రాన్ విన్యాసాన్ని కాదు.
రూపరేఖాత్మక పరమాణు నమూనా, ప్రమాణానుసారం కాదు.
పరమాణు ప్రత్యేక గుర్తింపు
ఉద్గార / శోషణ వర్ణపటం
సమస్థానిక పంపిణీ
| ద్రవ్యరాశి సంఖ్య | పరమాణు ద్రవ్యరాశి (u) | సహజ సమృద్ధి | అర్ధాయుష్షు |
|---|---|---|---|
| 19 స్థిరమైన | 18.99840316273 ± 0.00000000092 | 100.0000% | స్థిరమైన |
దశ / స్థితి
కారణం: మరుగు స్థానం (-188.12 °C) కంటే 213.1 °C ఎక్కువ
రూపరేఖ మాత్రమే, ప్రమాణానుసారం కాదు
దశ పరివర్తన స్థానాలు
పరివర్తన శక్తులు
ద్రవీభవన స్థానం వద్ద 1 molను ద్రవీభవింపజేయడానికి అవసరమైన శక్తి
మరుగు స్థానం వద్ద 1 molను బాష్పీభవింపజేయడానికి అవసరమైన శక్తి
సాంద్రత
ప్రామాణిక పరిస్థితుల వద్ద
ప్రస్తుత T వద్ద ఆదర్శ వాయు నియమంతో అంచనా వేయబడింది
ఉన్నత స్థాయి
పరమాణు వర్ణపటాలు
అందుబాటులో ఉన్న వర్ణపట రేఖల సమాచారం ?
| అయాన్ | ఆవేశం | మొత్తం రేఖలు | పరివర్తన సంభావ్యతలు | స్థాయి గుర్తింపులు |
|---|---|---|---|---|
| F I | 0 | 162 | 120 | 162 |
| F II | +1 | 150 | 67 | 67 |
| F III | +2 | 141 | 34 | 34 |
| F IV | +3 | 75 | 30 | 30 |
| F V | +4 | 513 | 472 | 472 |
| F VI | +5 | 269 | 269 | 269 |
| F VII | +6 | 470 | 439 | 470 |
| F VIII | +7 | 128 | 128 | 128 |
| F IX | +8 | 137 | 137 | 137 |
అందుబాటులో ఉన్న శక్తి స్థాయుల సమాచారం ?
| అయాన్ | ఆవేశం | స్థాయులు |
|---|---|---|
| F I | 0 | 303 |
| F II | +1 | 291 |
| F III | +2 | 278 |
| F IV | +3 | 170 |
| F V | +4 | 138 |
| F VI | +5 | 100 |
| F VII | +6 | 77 |
| F VIII | +7 | 151 |
| F IX | +8 | 149 |
అయానిక్ వ్యాసార్థాలు
| ఆవేశం | సమన్వయం | స్పిన్ | వ్యాసార్థం |
|---|---|---|---|
| -1 | 2 | అందుబాటులో లేదు | 128.5 pm |
| -1 | 3 | అందుబాటులో లేదు | 130 pm |
| -1 | 4 | అందుబాటులో లేదు | 131 pm |
| -1 | 6 | అందుబాటులో లేదు | 133 pm |
| +7 | 6 | అందుబాటులో లేదు | 8 pm |
సమ్మేళనాలు
సమస్థానికాలు (1)
| ద్రవ్యరాశి సంఖ్య | పరమాణు ద్రవ్యరాశి (u) | సహజ సమృద్ధి | అర్ధాయుష్షు | క్షయ విధానం | |
|---|---|---|---|---|---|
| 19 స్థిరమైన | 18.99840316273 ± 0.00000000092 | 100.0000% | స్థిరమైన | stable |
వర్ణపట రేఖలు
| తరంగదైర్ఘ్యం (nm) | తీవ్రత | అయాన్ దశ | రకం | పరివర్తన | ఖచ్చితత్వం | మూలం | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 383.22 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 2F* → 2p2.(1D).3d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 384.7086 nm | 270 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | కొలవబడినది | NIST | |
| 384.9985 nm | 260 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | కొలవబడినది | NIST | |
| 385.1668 nm | 250 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | కొలవబడినది | NIST | |
| 385.69 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3s 1S → 1s2.2s.3p 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 385.712 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 387.086 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 388.508 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 388.6 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | కొలవబడినది | NIST | |
| 388.6 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | కొలవబడినది | NIST | |
| 388.6 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | కొలవబడినది | NIST | |
| 389.2 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 389.2 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 389.2 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 390.229 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 390.45 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 394.51 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | కొలవబడినది | NIST | |
| 394.51 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | కొలవబడినది | NIST | |
| 394.51 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | కొలవబడినది | NIST | |
| 394.518 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 394.736 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 396.08 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 396.113 nm | అందుబాటులో లేదు | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 399.6 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 399.6 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 399.6 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 399.692 nm | అందుబాటులో లేదు | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 399.692 nm | అందుబాటులో లేదు | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 400.26 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 400.942 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 402.4726 nm | 240 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | కొలవబడినది | NIST | |
| 402.501 nm | 220 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | కొలవబడినది | NIST | |
| 402.5491 nm | 230 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | కొలవబడినది | NIST | |
| 405.99 nm | అందుబాటులో లేదు | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 405.99 nm | అందుబాటులో లేదు | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 410.3075 nm | 190 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 410.3213 nm | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 410.3506 nm | 200 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 410.3713 nm | 180 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 410.387 nm | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 410.4008 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 410.916 nm | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 411.03 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3p 1P* → 1s2.2s.3d 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 411.272 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 411.2969 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 411.44 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3p 1P* → 1s2.2s.3d 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 411.6535 nm | 160 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 411.699 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 411.8752 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 411.9207 nm | 150 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 415.775 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p4 1D → 2s2.2p4 1S | కొలవబడినది | NIST | |
| 423.3 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 424.76 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 426.19 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 426.28 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3s 1S → 1s2.2s.3p 1P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 427.32 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 427.94 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 429.9165 nm | 200 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 1D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 1F | కొలవబడినది | NIST | |
| 432.27 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 433.94 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 435.28 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 437.11 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 439.05 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 444.6527 nm | 160 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | కొలవబడినది | NIST | |
| 444.6689 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | కొలవబడినది | NIST | |
| 444.6721 nm | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | కొలవబడినది | NIST | |
| 444.7117 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | కొలవబడినది | NIST | |
| 444.7148 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | కొలవబడినది | NIST | |
| 444.7188 nm | 180 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | కొలవబడినది | NIST | |
| 455.99 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 1D → 1s2.2p.3d 1F* | కొలవబడినది | NIST | |
| 456.45 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 457.45 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 457.96 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 459.81 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 460.57 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 461.08 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | కొలవబడినది | NIST | |
| 463.41 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.4p 1P → 1s2.2p.4d 1P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 478.945 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 478.945 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 486.899 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 486.899 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 490.456 nm | అందుబాటులో లేదు | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 507.4 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 507.86 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 509.78 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 510.25 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 511.78 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 515.72 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 517.29 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 517.4 nm | అందుబాటులో లేదు | F VIII | emission | 1s.3s 3S → 1s.3p 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 522.95 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | కొలవబడినది | NIST | |
| 525.1 nm | అందుబాటులో లేదు | F VIII | emission | 1s.3s 3S → 1s.3p 3P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 528.03 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 528.03 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 528.03 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 528.03 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 533.07 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 1S → 1s2.2p.3d 1P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 543.21 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 544 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 544 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 544 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 545.91 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 549.84 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 549.99 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 556.76 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 560.85 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | కొలవబడినది | NIST | |
| 568.67 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | కొలవబడినది | NIST | |
| 572.12 nm | అందుబాటులో లేదు | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 572.12 nm | అందుబాటులో లేదు | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 572.15 nm | అందుబాటులో లేదు | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 573.29 nm | అందుబాటులో లేదు | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 573.29 nm | అందుబాటులో లేదు | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 573.32 nm | అందుబాటులో లేదు | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 573.32 nm | అందుబాటులో లేదు | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 576.14 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | కొలవబడినది | NIST | |
| 585.63 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | కొలవబడినది | NIST | |
| 593.55 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | కొలవబడినది | NIST | |
| 604 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 604 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 604 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 683 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 683 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 683 nm | అందుబాటులో లేదు | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | కొలవబడినది | NIST | |
| 713.8 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | కొలవబడినది | NIST | |
| 719.4 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | కొలవబడినది | NIST | |
| 723.4 nm | అందుబాటులో లేదు | F VI | emission | 1s2.2p.4s 1P* → 1s2.2p.4p 1D | కొలవబడినది | NIST | |
| 728.5 nm | అందుబాటులో లేదు | F VIII | emission | 1s.3s 1S → 1s.3p 1P* | కొలవబడినది | NIST | |
| 735.8 nm | అందుబాటులో లేదు | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | కొలవబడినది | NIST |
విస్తృత లక్షణాలు
సంయోజనీయ వ్యాసార్థాలు (విస్తృత)
- సంయోజనీయ వ్యాసార్థం (ప్యుక్కో)
- 64 pm
- సంయోజనీయ వ్యాసార్థం (ప్యుక్కో, ద్విబంధం)
- 59 pm
- సంయోజనీయ వ్యాసార్థం (ప్యుక్కో, త్రిబంధం)
- 53 pm
- సంయోజనీయ వ్యాసార్థం (బ్రాగ్)
- 67 pm
వాన్ డర్ వాల్స్ వ్యాసార్థాలు
- Bondi
- 147 pm
- Batsanov
- 150 pm
- Alvarez
- 146 pm
- UFF
- 336.4 pm
- MM3
- 171 pm
- Dreiding
- 347.2 pm
- Rowland–Taylor
- 146 pm
పరమాణు మరియు లోహ వ్యాసార్థాలు
- పరమాణు వ్యాసార్థం (రామ్)
- 163 pm
సంఖ్యాక్రమ ప్రమాణాలు
- Mendeleev
- 106
- Pettifor
- 102
- Glawe
- 102
విద్యుదృణాత్మకత ప్రమాణాలు
- Ghosh
- 0
- Gunnarsson–Lundqvist
- 11
- Robles–Bartolotti
- 10
ధ్రువణీయత మరియు విక్షేపణం
- ద్విధ్రువ ధ్రువణీయత
- 3.74 a.u.
- ద్విధ్రువ ధ్రువణీయత (అనిశ్చితి)
- 0.08 a.u.
- C₆
- 9.52 Ha·Bohr6
- C₆ (Gould–Bučko)
- 10.2 Ha·Bohr6
రసాయన బంధుత్వం
- ప్రోటాన్ బంధుత్వం
- 340.1 kJ/mol
- వాయు క్షారత్వం
- 315.1 kJ/mol
సరఫరా ప్రమాదం మరియు ఆర్థిక అంశాలు
- ఉత్పత్తి కేంద్రీకరణ
- 56
- సాపేక్ష సరఫరా ప్రమాదం
- 7
- నిల్వల పంపిణీ
- 17
- రాజకీయ స్థిరత్వం (అగ్ర ఉత్పత్తిదారు)
- 24
- రాజకీయ స్థిరత్వం (అత్యధిక నిల్వలు గల దేశం)
- 44
దశ పరివర్తనలు మరియు భిన్నరూపాలు
| ద్రవీభవన స్థానం | 53.48 K |
| మరుగు స్థానం | 85.04 K |
| సందిగ్ధ స్థానం (ఉష్ణోగ్రత) | 144.41 K |
| సందిగ్ధ స్థానం (పీడనం) | 5.17 MPa |
| త్రిక స్థానం (ఉష్ణోగ్రత) | 53.48 K |
| త్రిక స్థానం (పీడనం) | 90 kPa |
ఆక్సీకరణ స్థితి వర్గాలు
ఉన్నత స్థాయి సూచన సమాచారం
పరిరక్షణ స్థిరాంకాలు (3)
| n | ఆర్బిటాల్ | σ |
|---|---|---|
| 1 | s | 0.3499 |
| 2 | p | 3.9 |
| 2 | s | 3.8724 |
స్ఫటిక వ్యాసార్థాల వివరాలు (5)
| ఆవేశం | CN | స్పిన్ | rcrystal (pm) | మూలం |
|---|---|---|---|---|
| -1 | II | 114.5 | ||
| -1 | III | 116 | ||
| -1 | IV | 117 | ||
| -1 | VI | 119 | ||
| 7 | VI | 22 | Ahrens (1952) ionic radius, |
సమస్థానిక క్షయ విధానాలు (31)
| సమస్థానికం | మోడ్ | తీవ్రత |
|---|---|---|
| 13 | p | — |
| 14 | p | — |
| 15 | p | 100% |
| 16 | p | 100% |
| 17 | B+ | 100% |
| 18 | B+ | 100% |
| 20 | B- | 100% |
| 21 | B- | 100% |
| 22 | B- | 100% |
| 22 | B-n | 11% |
X‑కిరణ పరిక్షేపణ కారకాలు (502)
| శక్తి (eV) | f₁ | f₂ |
|---|---|---|
| 10 | — | 0.05165 |
| 10.1617 | — | 0.05648 |
| 10.3261 | — | 0.06176 |
| 10.4931 | — | 0.06754 |
| 10.6628 | — | 0.07386 |
| 10.8353 | — | 0.08077 |
| 11.0106 | — | 0.08833 |
| 11.1886 | — | 0.09659 |
| 11.3696 | — | 0.10831 |
| 11.5535 | — | 0.12462 |
అదనపు సమాచారం
Estimated Crustal Abundance
The estimated element abundance in the earth's crust.
5.85×102 milligrams per kilogram
మూలాధారాలు (1)
- [5] Fluorine https://education.jlab.org/itselemental/ele009.html
Estimated Oceanic Abundance
The estimated element abundance in the earth's oceans.
1.3 milligrams per liter
మూలాధారాలు (1)
- [5] Fluorine https://education.jlab.org/itselemental/ele009.html
మూలాధారాలు
(9)
Data deposited in or computed by PubChem
The half-life and atomic mass data was provided by the Atomic Mass Data Center at the International Atomic Energy Agency.
Element data are cited from the Atomic weights of the elements (an IUPAC Technical Report). The IUPAC periodic table of elements can be found at https://iupac.org/what-we-do/periodic-table-of-elements/. Additional information can be found within IUPAC publication doi:10.1515/pac-2015-0703 Copyright © 2020 International Union of Pure and Applied Chemistry.
The information are cited from Pure Appl. Chem. 2018; 90(12): 1833-2092, https://doi.org/10.1515/pac-2015-0703.
Thomas Jefferson National Accelerator Facility (Jefferson Lab) is one of 17 national laboratories funded by the U.S. Department of Energy. The lab's primary mission is to conduct basic research of the atom's nucleus using the lab's unique particle accelerator, known as the Continuous Electron Beam Accelerator Facility (CEBAF). For more information visit https://www.jlab.org/
The periodic table at the LANL (Los Alamos National Laboratory) contains basic element information together with the history, source, properties, use, handling and more. The provenance data may be found from the link under the source name.
The periodic table contains NIST's critically-evaluated data on atomic properties of the elements. The provenance data that include data for atomic spectroscopy, X-ray and gamma ray, radiation dosimetry, nuclear physics, and condensed matter physics may be found from the link under the source name. Ref: https://www.nist.gov/pml/atomic-spectra-database
This section provides all form of data related to element Fluorine.
The element property data was retrieved from publications.