Fluorine (F)
halogenGas
தரநிலை அணு எடை
18.998403 uஎலக்ட்ரான் அமைப்பு
[He] 2s2 2p5உருகுநிலை
-219.62 °Cகொதிநிலை
-188.12 °Cஅடர்த்தி
1.696 kg/m³ஆக்சிஜனேற்ற நிலைகள்
-1எலக்ட்ரான் கவர்திறன் (பாலிங்)
3.98அயனியாக்க ஆற்றல் (1வது)
17.42282 eVகண்டுபிடிக்கப்பட்ட ஆண்டு
1886அணு ஆரம்
50 pmவிவரங்கள்
Fluorine is the lightest halogen and the most electronegative chemical element. In elemental form it occurs as diatomic fluorine, F₂, a highly reactive oxidizing gas. Natural fluorine is almost entirely the stable isotope ¹⁹F and is found in minerals rather than as the free element. Its chemistry underlies fluoride minerals, uranium enrichment chemistry, fluoropolymers, refrigerants, many agrochemicals, and a large share of modern medicinal chemistry.
Fluorine is the most electronegative and reactive of all elements. It is a pale yellow, corrosive gas, which reacts with most organic and inorganic substances. Finely divided metals, glass, ceramics, carbon, and even water burn in fluorine with a bright flame.
Until World War II, there was no commercial production of elemental fluorine. The nuclear bomb project and nuclear energy applications, however, made it necessary to produce large quantities.
The name derives from the Latin fluere for "flow" or "flux" because fluorite (CaF2) was used as a flux in metallurgy owing to its low melting point. It was discovered in hydrofluoric acid by the Swedish pharmacist and chemist Carl-Wilhelm Scheele in 1771, but it was not isolated until 1886 by the French pharmacist and chemist Henri Moissan.
Fluorine is the most reactive of all elements and no chemical substance is capable of freeing fluorine from any of its compounds. For this reason, fluorine does not occur free in nature and was extremely difficult for scientists to isolate. The first recorded use of a fluorine compound dates to around 1670 to a set of instructions for etching glass that called for Bohemian emerald (CaF2). Chemists attempted to identify the material that was capable of etching glass and George Gore was able to produce a small amount of fluorine through an electrolytic process in 1869. Unknown to Gore, fluorine gas explosively combines with hydrogen gas. That is exactly what happened in Gore's experiment when the fluorine gas that formed on one electrode combined with the hydrogen gas that formed on the other electrode. Ferdinand Frederic Henri Moissan, a French chemist, was the first to successfully isolate fluorine in 1886. He did this through the electrolysis of potassium fluoride (KF) and hydrofluoric acid (HF). He also completely isolated the fluorine gas from the hydrogen gas and he built his electrolysis device completely from platinum. His work was so impressive that he was awarded the Nobel Prize for chemistry in 1906. Today, fluorine is still produced through the electrolysis of potassium fluoride and hydrofluoric acid as well as through the electrolysis of molten potassium acid fluoride (KHF2).
From the Latin and French fluere: flow or flux. In 1529, Georigius Agricola described the use of fluorspar as a flux, and as early as 1670 Schwandhard found that glass was etched when exposed to fluorspar treated with acid. Scheele and many later investigators, including Davy, Gay-Lussac, Lavoisier, and Thenard, experimented with hydrofluoric acid, some experiments ending tragically.
The element was finally isolated in 1866 by Moissan after nearly 74 years of continuous effort.
Pure fluorine, F₂, is a pale yellow gas at ordinary temperature and pressure. It condenses to a yellow liquid and freezes to a pale solid at low temperature. The gas has a sharp, irritating odor, but odor is not a safe means of detection.
Elemental fluorine, F₂, is used mainly where its extreme oxidizing and fluorinating power is required, including preparation of uranium hexafluoride, UF₆, for isotope separation and manufacture of some specialty inorganic fluorides. Much larger practical importance lies in fluorine-containing compounds. Fluoropolymers such as polytetrafluoroethylene, (C₂F₄)ₙ, are used for chemically resistant coatings, seals, membranes, and electrical insulation. Fluoride compounds are used in glass etching, aluminum production, dental products, pharmaceuticals, and crop-protection chemicals.
Fluorine is added to city water supplies in the proportion of about one part per million to help prevent tooth decay. Sodium fluoride (NaF), stannous(II) fluoride (SnF2) and sodium monofluorophosphate (Na2PO3F) are all fluorine compounds added to toothpaste, also to help prevent tooth decay. Hydrofluoric acid (HF) is used to etch glass, including most of the glass used in light bulbs. Uranium hexafluoride (UF6) is used to separate isotopes of uranium. Crystals of calcium fluoride (CaF2), also known as fluorite and fluorspar, are used to make lenses to focus infrared light. Fluorine joins with carbon to form a class of compounds known as fluorocarbons. Some of these compounds, such as dichlorodifluoromethane (CF2Cl2), were widely used in air conditioning and refrigeration systems and in aerosol spray cans, but have been phased out due to the damage they were causing to the earth's ozone layer.
Fluorine and its compounds are used in producing uranium (from the hexafluoride) and more than 100 commercial fluorochemicals, including many high-temperature plastics. Hydrofluoric acid etches glass of light bulbs. Fluorochlorohydrocarbons are extensively used in air conditioning and refrigeration.
The presence of fluorine as a soluble fluoride in drinking water to the extent of 2 ppm may cause mottled enamel in teeth when used by children acquiring permanent teeth; in smaller amounts, however, fluoride helps prevent dental cavities.
Elemental fluorine has been studied as a rocket propellant as it has an exceptionally high specific impulse value.
Isotopes in Medicine
18F is a radioactive fluorine isotope that is used in an 18F-FDG compound (18F-labeled, fluoro-deoxy glucose) for imaging the organs, bones, tissues, and brain of the body with a technique called positron emission topography (PET). The 18F-FDG compound is injected and the isotopically labeled glucose is consumed by any cell requiring glucose as a source of energy [98] R. Krebs. The History And Use Of Our Earth’s Chemical Elements: A Reference Guide, 2nd ed. Greenwood Press, Westport, CT (2006)., [99] World Nuclear Association. Radioisotopes in Medicine, World Nuclear Association (2014), Feb. 23; http://www.world-nuclear.org/info/inf55.html..
– 18F emits positrons that collect in tissue and interact with regular negative electrons when injected into the body. The positrons and electrons annihilate each other, producing two gamma rays that are emitted in opposite directions. The radiation is detected on a PET camera, which generates a picture of the body part being examined (Fig. IUPAC.9.1).
–Because 18F has a short half-life of about 110 min, there is little chance of radiation damage to the patient.
Fluorine most commonly has oxidation state −1 in compounds, as in hydrogen fluoride, HF, sodium fluoride, NaF, and calcium fluoride, CaF₂. With highly electropositive elements it forms ionic fluorides; with nonmetals it forms strongly covalent fluorides such as sulfur hexafluoride, SF₆, and silicon tetrafluoride, SiF₄. Fluorine can also form interhalogen compounds, including chlorine trifluoride, ClF₃. Oxygen fluorides such as oxygen difluoride, OF₂, are unusual because fluorine is assigned the negative oxidation state while oxygen is positive.
One hypothesis says that fluorine can be substituted for hydrogen wherever it occurs in organic compounds, which could lead to an astronomical number of new fluorine compounds. Compounds of fluorine with rare gases have now been confirmed in fluorides of xenon, radon, and krypton.
See more information at the Fluorine compound page.
Elemental fluorine, F₂, is acutely toxic, corrosive, and a powerful oxidizer that can ignite or violently react with many materials. Hydrogen fluoride, HF, is especially hazardous because it penetrates tissue and binds calcium and magnesium ions. Soluble fluorides can be toxic at sufficient dose, while controlled low concentrations of fluoride ion, F⁻, have dental uses. Some fluorinated gases are chemically stable but may be asphyxiants or potent greenhouse gases.
Elemental fluorine and the fluoride ion are highly toxic. The free element has a characteristic pungent odor, detectable in concentrations as low as 20 ppb, which is below the safe working level. The recommended maximum allowable concentration for a daily 8-hour time-weighted exposure is 1 ppm.
Fluorine enters the environment chiefly as fluoride in minerals, volcanic emissions, sea spray, industrial releases, and weathering products. Fluoride ion, F⁻, binds to calcium, aluminum, and iron phases and can be immobilized in soils or sediments, though mobility depends strongly on pH and water chemistry. Elevated natural or industrial fluoride in groundwater can affect teeth, bones, livestock, and vegetation. Persistent organofluorine compounds vary widely in mobility and degradation behavior.
Fluorine supply is based primarily on mining fluorite, CaF₂, with smaller contributions from fluorapatite-bearing phosphate rock processed in fertilizer production. Hydrogen fluoride, HF, is the central industrial intermediate, made by treating fluorite with sulfuric acid, H₂SO₄. Direct production and transport of elemental fluorine are limited by its reactivity, so it is commonly generated or consumed close to the point of use. Demand is tied to aluminum smelting, chemical manufacturing, electronics materials, fluoropolymers, and regulated refrigerant transitions. Recycling is important for some fluorinated materials but is often chemically or economically difficult.
Found in the minerals fluorite (CaF2) and cryolite(Na3AlF6). Electrolysis of hydrofluoric acid (HF) or potassium acid fluoride (KHF2) is the only practical method of commercial production.
Fluorine is relatively rare in the cosmos compared with neighboring light elements. It is thought to be made in several settings, including helium-burning regions of evolved stars, neutrino-driven processes in core-collapse supernovae, and possibly novae, with their relative contributions still studied. In planetary materials it is concentrated into minerals, melts, and volatile-bearing phases rather than remaining as free F₂.
- Fluorine has only one stable natural isotope, ¹⁹F.
- Fluorite, CaF₂, gave the element its name through its use as a flux.
- Glass etching by hydrogen fluoride, HF, reflects the strength of silicon-fluorine bonding.
- Polytetrafluoroethylene, (C₂F₄)ₙ, was discovered accidentally during refrigerant research.
- Uranium hexafluoride, UF₆, is volatile enough for gas-phase isotope enrichment.
- Fluoride minerals can preserve fluorine in rocks over geologic time.
படங்கள்
பண்புகள்
இயற்பியல்
- அணு ஆரம் (சோதனைசார்)
- 50 pm அனைத்து தனிமங்களின் அணு ஆரம் (சோதனைசார்) ஒப்பிடுங்கள் →
- சகப்பிணைப்பு ஆரம்
- 57 pm அனைத்து தனிமங்களின் சகப்பிணைப்பு ஆரம் ஒப்பிடுங்கள் →
- வான் டெர் வால்ஸ் ஆரம்
- 135 pm அனைத்து தனிமங்களின் வான் டெர் வால்ஸ் ஆரம் ஒப்பிடுங்கள் →
- அடர்த்தி
- 1.696 kg/m³ அனைத்து தனிமங்களின் அடர்த்தி ஒப்பிடுங்கள் →
- மோலார் பருமன்
- 0.0171 L/mol
- STP இல் நிலை
- வாயு அனைத்து தனிமங்களின் STP இல் நிலை ஒப்பிடுங்கள் →
- உருகுநிலை
- -219.62 °C அனைத்து தனிமங்களின் உருகுநிலை ஒப்பிடுங்கள் →
- கொதிநிலை
- -188.12 °C அனைத்து தனிமங்களின் கொதிநிலை ஒப்பிடுங்கள் →
- வெப்பக் கடத்துத்திறன்
- 0.028 W/(m·K) அனைத்து தனிமங்களின் வெப்பக் கடத்துத்திறன் ஒப்பிடுங்கள் →
- தன்வெப்ப ஏற்புத்திறன்
- 0.824 J/(g·K) அனைத்து தனிமங்களின் தன்வெப்ப ஏற்புத்திறன் ஒப்பிடுங்கள் →
- மோலார் வெப்ப ஏற்புத்திறன்
- 31.304 J/(mol·K) அனைத்து தனிமங்களின் மோலார் வெப்ப ஏற்புத்திறன் ஒப்பிடுங்கள் →
- படிக அமைப்பு
- ஒற்றைச் சாய்வு அனைத்து தனிமங்களின் படிக அமைப்பு ஒப்பிடுங்கள் →
வேதியியல்
- எலக்ட்ரான் கவர்திறன் (பாலிங்)
- 3.98 அனைத்து தனிமங்களின் எலக்ட்ரான் கவர்திறன் (பாலிங்) ஒப்பிடுங்கள் →
- எலக்ட்ரான் கவர்திறன் (ஆலன்)
- 4.193
- எலக்ட்ரான் நாட்டம்
- 3.4011 eV
- அயனியாக்க ஆற்றல் (1வது)
- 17.42282 eV அனைத்து தனிமங்களின் அயனியாக்க ஆற்றல் (1வது) ஒப்பிடுங்கள் →
- அயனியாக்க ஆற்றல் (2வது)
- 34.97093 eV அனைத்து தனிமங்களின் அயனியாக்க ஆற்றல் (2வது) ஒப்பிடுங்கள் →
- அயனியாக்க ஆற்றல் (3வது)
- 62.708196 eV அனைத்து தனிமங்களின் அயனியாக்க ஆற்றல் (3வது) ஒப்பிடுங்கள் →
- அயனியாக்க ஆற்றல் (4வது)
- 87.1753 eV அனைத்து தனிமங்களின் அயனியாக்க ஆற்றல் (4வது) ஒப்பிடுங்கள் →
- அயனியாக்க ஆற்றல் (5வது)
- 114.249393 eV அனைத்து தனிமங்களின் அயனியாக்க ஆற்றல் (5வது) ஒப்பிடுங்கள் →
- ஆக்சிஜனேற்ற நிலைகள்
- -1 அனைத்து தனிமங்களின் ஆக்சிஜனேற்ற நிலைகள் ஒப்பிடுங்கள் →
- இணைதிறன் எலக்ட்ரான்கள்
- 7 அனைத்து தனிமங்களின் இணைதிறன் எலக்ட்ரான்கள் ஒப்பிடுங்கள் →
- எலக்ட்ரான் அமைப்பு
- [He] 2s2 2p5
வெப்ப இயக்கவியல்
- மும்மைப் புள்ளி (வெப்பநிலை)
- -219.67 °C
- மும்மைப் புள்ளி (அழுத்தம்)
- 9e+4 Pa
- மாறுநிலைப் புள்ளி (வெப்பநிலை)
- -128.74 °C
- மாறுநிலைப் புள்ளி (அழுத்தம்)
- 5.1724e+6 Pa
- உருகுதல் வெப்பம்
- 0.0026429 eV அனைத்து தனிமங்களின் உருகுதல் வெப்பம் ஒப்பிடுங்கள் →
- ஆவியாதல் வெப்பம்
- 0.06778256 eV அனைத்து தனிமங்களின் ஆவியாதல் வெப்பம் ஒப்பிடுங்கள் →
- அணுவாக்க வெப்பம்
- 0.8228222 eV
- அணுவாக்க என்தால்பி
- 0.82225216 eV
அணுக்கரு
- புரோட்டான்கள்
- 9 அனைத்து தனிமங்களின் புரோட்டான்கள் ஒப்பிடுங்கள் →
- நியூட்ரான்கள்
- 10 அனைத்து தனிமங்களின் நியூட்ரான்கள் ஒப்பிடுங்கள் →
- அறியப்பட்ட ஐசோடோப்புகள்
- 19 அனைத்து தனிமங்களின் அறியப்பட்ட ஐசோடோப்புகள் ஒப்பிடுங்கள் →
- நிலையான ஐசோடோப்புகள்
- 1 அனைத்து தனிமங்களின் நிலையான ஐசோடோப்புகள் ஒப்பிடுங்கள் →
- மிக நிலையான ஐசோடோப்பு
- F-19
- கண்டுபிடிக்கப்பட்ட ஆண்டு
- 1886
மிகுதி
- மிகுதி (புவி மேலோடு)
- 585 mg/kg அனைத்து தனிமங்களின் மிகுதி (புவி மேலோடு) ஒப்பிடுங்கள் →
- மிகுதி (பெருங்கடல்)
- 1.3 mg/L அனைத்து தனிமங்களின் மிகுதி (பெருங்கடல்) ஒப்பிடுங்கள் →
படிக அமைப்பு
கிடைக்கவில்லை
எலக்ட்ரான் அமைப்பு
- ஒவ்வொரு கூட்டிலும் உள்ள எலக்ட்ரான்கள்
- 2, 7 அனைத்து தனிமங்களின் ஒவ்வொரு கூட்டிலும் உள்ள எலக்ட்ரான்கள் ஒப்பிடுங்கள் →
அடையாளங்காட்டிகள்
- CAS எண்
- 7782-41-4 அனைத்து தனிமங்களின் CAS எண் ஒப்பிடுங்கள் →
- நிறமாலை நிலைக் குறியீடு
- 2P°3/2
- InChI
- InChI=1S/F
- InChI விசை
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N
எலக்ட்ரான் அமைப்பு அளவிடப்பட்டது
F: 2s² 2p⁵[He] 2s² 2p⁵1s² 2s² 2p⁵அணு மாதிரி
ஐசோடோப்புகள் நியூட்ரான் எண்ணிக்கை, நிறை மற்றும் நிலைத்தன்மையை மாற்றுகின்றன — மின்னூட்டமற்ற அணுவின் எலக்ட்ரான் அமைப்பை அல்ல.
விளக்க அணு மாதிரி; அளவிற்கு ஏற்ப இல்லை.
அணு அடையாளத் தடம்
உமிழ்வு / உறிஞ்சல் நிறமாலை
ஐசோடோப்புப் பரவல்
| நிறை எண் | அணு நிறை (u) | இயற்கை மிகுதி | அரை ஆயுள் |
|---|---|---|---|
| 19 நிலையானது | 18.99840316273 ± 0.00000000092 | 100.0000% | நிலையானது |
கட்டம் / நிலை
காரணம்: கொதிநிலைக்கு (-188.12 °C) மேல் 213.1 °C
விளக்க வரைபடம், அளவிற்கு ஏற்ப இல்லை
நிலை மாற்றப் புள்ளிகள்
நிலைமாற்ற ஆற்றல்கள்
உருகுநிலையில் 1 mol ஐ உருக்கத் தேவையான ஆற்றல்
கொதிநிலையில் 1 mol ஐ ஆவியாக்கத் தேவையான ஆற்றல்
அடர்த்தி
தரநிலை நிலைமைகளில்
தற்போதைய T இல் நல்லியல்பு வாயு விதி மூலம் மதிப்பிடப்பட்டது
மேம்பட்டவை
அணு நிறமாலைகள்
நிறமாலைக் கோட்டுத் தரவுப் பதிவுகள் ?
| அயனி | மின்னூட்டம் | மொத்தக் கோடுகள் | நிலைமாற்ற நிகழ்தகவுகள் | மட்டக் குறியீடுகள் |
|---|---|---|---|---|
| F I | 0 | 162 | 120 | 162 |
| F II | +1 | 150 | 67 | 67 |
| F III | +2 | 141 | 34 | 34 |
| F IV | +3 | 75 | 30 | 30 |
| F V | +4 | 513 | 472 | 472 |
| F VI | +5 | 269 | 269 | 269 |
| F VII | +6 | 470 | 439 | 470 |
| F VIII | +7 | 128 | 128 | 128 |
| F IX | +8 | 137 | 137 | 137 |
மட்டத் தரவுப் பதிவுகள் ?
| அயனி | மின்னூட்டம் | மட்டங்கள் |
|---|---|---|
| F I | 0 | 303 |
| F II | +1 | 291 |
| F III | +2 | 278 |
| F IV | +3 | 170 |
| F V | +4 | 138 |
| F VI | +5 | 100 |
| F VII | +6 | 77 |
| F VIII | +7 | 151 |
| F IX | +8 | 149 |
அயனி ஆரங்கள்
| மின்னூட்டம் | அணைவு | தற்சுழற்சி | ஆரம் |
|---|---|---|---|
| -1 | 2 | கிடைக்கவில்லை | 128.5 pm |
| -1 | 3 | கிடைக்கவில்லை | 130 pm |
| -1 | 4 | கிடைக்கவில்லை | 131 pm |
| -1 | 6 | கிடைக்கவில்லை | 133 pm |
| +7 | 6 | கிடைக்கவில்லை | 8 pm |
சேர்மங்கள்
ஐசோடோப்புகள் (1)
| நிறை எண் | அணு நிறை (u) | இயற்கை மிகுதி | அரை ஆயுள் | சிதைவு முறை | |
|---|---|---|---|---|---|
| 19 நிலையானது | 18.99840316273 ± 0.00000000092 | 100.0000% | நிலையானது | stable |
நிறமாலைக் கோடுகள்
| அலைநீளம் (nm) | செறிவு | அயனியாக்க நிலை | வகை | நிலைமாற்றம் | துல்லியம் | மூலம் | |
|---|---|---|---|---|---|---|---|
| 383.22 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 2F* → 2p2.(1D).3d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 384.7086 nm | 270 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 384.9985 nm | 260 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 385.1668 nm | 250 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 5S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 5P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 385.69 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3s 1S → 1s2.2s.3p 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 385.712 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 387.086 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 388.508 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 388.6 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 388.6 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 388.6 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8g 2G | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 389.2 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 389.2 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 389.2 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7f 2F* → 1s2.8d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 390.229 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3p 4S* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 390.45 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 394.51 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 394.51 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 394.51 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 394.518 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 394.736 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 396.08 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 396.113 nm | கிடைக்கவில்லை | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 399.6 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 399.6 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 399.6 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.7d 2D → 1s2.8p 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 399.692 nm | கிடைக்கவில்லை | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 399.692 nm | கிடைக்கவில்லை | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 400.26 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 400.942 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(3P).3s 4P → 2s.2p.(3P*).4s 4P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 402.4726 nm | 240 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 402.501 nm | 220 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 402.5491 nm | 230 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3s 3S* → 2s2.2p3.(4S*).3p 3P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 405.99 nm | கிடைக்கவில்லை | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 405.99 nm | கிடைக்கவில்லை | F IV | emission | 2s2.2p2 3P → 2s2.2p2 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 410.3075 nm | 190 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 410.3213 nm | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 410.3506 nm | 200 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 410.3713 nm | 180 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 410.387 nm | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 410.4008 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3p 3P → 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 410.916 nm | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 411.03 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3p 1P* → 1s2.2s.3d 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 411.272 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 411.2969 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 411.44 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3p 1P* → 1s2.2s.3d 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 411.6535 nm | 160 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 411.699 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 411.8752 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 411.9207 nm | 150 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 3D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 415.775 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p4 1D → 2s2.2p4 1S | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 423.3 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 424.76 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 426.19 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 426.28 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3s 1S → 1s2.2s.3p 1P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 427.32 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 427.94 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 429.9165 nm | 200 | F II | emission | 2s2.2p3.(2D*).3s 1D* → 2s2.2p3.(2D*).3p 1F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 432.27 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 433.94 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 435.28 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 437.11 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3p 2D → 2s.2p.(3P*).3d 2D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 439.05 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 444.6527 nm | 160 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 444.6689 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 444.6721 nm | 170 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 444.7117 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 444.7148 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 444.7188 nm | 180 | F II | emission | 2s2.2p3.(4S*).3d 3D* → 2s2.2p3.(4S*).4f 3F | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 455.99 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 1D → 1s2.2p.3d 1F* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 456.45 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 457.45 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 457.96 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 459.81 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 460.57 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 461.08 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2s.3p 3P* → 1s2.2s.3d 3D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 463.41 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.4p 1P → 1s2.2p.4d 1P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 478.945 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 478.945 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 486.899 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 486.899 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 490.456 nm | கிடைக்கவில்லை | F II | emission | 2s2.2p4 3P → 2s2.2p4 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 507.4 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 507.86 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 509.78 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 510.25 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 511.78 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 515.72 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 517.29 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 517.4 nm | கிடைக்கவில்லை | F VIII | emission | 1s.3s 3S → 1s.3p 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 522.95 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4d 4D* → 2p2.(3P).3d 4P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 525.1 nm | கிடைக்கவில்லை | F VIII | emission | 1s.3s 3S → 1s.3p 3P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 528.03 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 528.03 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 528.03 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 528.03 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2p2.(1D).3p 2D* → 2p2.(1D).3d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 533.07 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 1S → 1s2.2p.3d 1P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 543.21 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 544 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 544 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 544 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.8p 2P* → 1s2.9d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 545.91 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 549.84 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 549.99 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 556.76 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 560.85 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.3p 3P → 1s2.2p.3d 3D* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 568.67 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 572.12 nm | கிடைக்கவில்லை | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 572.12 nm | கிடைக்கவில்லை | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 572.15 nm | கிடைக்கவில்லை | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 573.29 nm | கிடைக்கவில்லை | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 573.29 nm | கிடைக்கவில்லை | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 573.32 nm | கிடைக்கவில்லை | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 573.32 nm | கிடைக்கவில்லை | F III | emission | 2s2.2p3 2D* → 2s2.2p3 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 576.14 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 585.63 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 593.55 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).3s 2P* → 2s.2p.(3P*).3p 2P | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 604 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 604 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 604 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.8d 2D → 1s2.9p 2P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 683 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 683 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 683 nm | கிடைக்கவில்லை | F VII | emission | 1s2.9p 2P* → 1s2.10d 2D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 713.8 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 719.4 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 723.4 nm | கிடைக்கவில்லை | F VI | emission | 1s2.2p.4s 1P* → 1s2.2p.4p 1D | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 728.5 nm | கிடைக்கவில்லை | F VIII | emission | 1s.3s 1S → 1s.3p 1P* | அளவிடப்பட்டது | NIST | |
| 735.8 nm | கிடைக்கவில்லை | F V | emission | 2s.2p.(3P*).4p 2D → 2s.2p.(3P*).4d 2F* | அளவிடப்பட்டது | NIST |
விரிவான பண்புகள்
சகப்பிணைப்பு ஆரங்கள் (விரிவானவை)
- சகப்பிணைப்பு ஆரம் (பியுக்கோ)
- 64 pm
- சகப்பிணைப்பு ஆரம் (பியுக்கோ, இரட்டைப் பிணைப்பு)
- 59 pm
- சகப்பிணைப்பு ஆரம் (பியுக்கோ, முப்பிணைப்பு)
- 53 pm
- சகப்பிணைப்பு ஆரம் (பிராக்)
- 67 pm
வான் டெர் வால்ஸ் ஆரங்கள்
- Bondi
- 147 pm
- Batsanov
- 150 pm
- Alvarez
- 146 pm
- UFF
- 336.4 pm
- MM3
- 171 pm
- Dreiding
- 347.2 pm
- Rowland–Taylor
- 146 pm
அணு மற்றும் உலோக ஆரங்கள்
- அணு ஆரம் (ராம்)
- 163 pm
எண்ணிடல் அளவுகோல்கள்
- Mendeleev
- 106
- Pettifor
- 102
- Glawe
- 102
எலக்ட்ரான் கவர்திறன் அளவுகோல்கள்
- Ghosh
- 0
- Gunnarsson–Lundqvist
- 11
- Robles–Bartolotti
- 10
முனைவாக்கத்திறன் மற்றும் நிறப்பிரிகை
- இருமுனை முனைவாக்கத்திறன்
- 3.74 a.u.
- இருமுனை முனைவாக்கத்திறன் (நிச்சயமின்மை)
- 0.08 a.u.
- C₆
- 9.52 Ha·Bohr6
- C₆ (Gould–Bučko)
- 10.2 Ha·Bohr6
வேதியியல் நாட்டம்
- புரோட்டான் நாட்டம்
- 340.1 kJ/mol
- வாயுநிலைக் காரத்தன்மை
- 315.1 kJ/mol
விநியோக இடர் மற்றும் பொருளாதாரம்
- உற்பத்திக் குவிப்பு
- 56
- ஒப்பீட்டு விநியோக இடர்
- 7
- இருப்புப் பரவல்
- 17
- அரசியல் நிலைத்தன்மை (முன்னணி உற்பத்தியாளர்)
- 24
- அரசியல் நிலைத்தன்மை (அதிக இருப்புள்ள நாடு)
- 44
நிலை மாற்றங்கள் மற்றும் புறவேற்றுமை வடிவங்கள்
| உருகுநிலை | 53.48 K |
| கொதிநிலை | 85.04 K |
| மாறுநிலைப் புள்ளி (வெப்பநிலை) | 144.41 K |
| மாறுநிலைப் புள்ளி (அழுத்தம்) | 5.17 MPa |
| மும்மைப் புள்ளி (வெப்பநிலை) | 53.48 K |
| மும்மைப் புள்ளி (அழுத்தம்) | 90 kPa |
ஆக்சிஜனேற்ற நிலை வகைகள்
மேம்பட்ட மேற்கோள் தரவுகள்
திரைமறைப்பு மாறிலிகள் (3)
| n | ஆர்பிட்டால் | σ |
|---|---|---|
| 1 | s | 0.3499 |
| 2 | p | 3.9 |
| 2 | s | 3.8724 |
படிக ஆரங்களின் விவரங்கள் (5)
| மின்னூட்டம் | CN | தற்சுழற்சி | rcrystal (pm) | தோற்றம் |
|---|---|---|---|---|
| -1 | II | 114.5 | ||
| -1 | III | 116 | ||
| -1 | IV | 117 | ||
| -1 | VI | 119 | ||
| 7 | VI | 22 | Ahrens (1952) ionic radius, |
ஐசோடோப்புச் சிதைவு முறைகள் (31)
| ஐசோடோப்பு | முறை | செறிவு |
|---|---|---|
| 13 | p | — |
| 14 | p | — |
| 15 | p | 100% |
| 16 | p | 100% |
| 17 | B+ | 100% |
| 18 | B+ | 100% |
| 20 | B- | 100% |
| 21 | B- | 100% |
| 22 | B- | 100% |
| 22 | B-n | 11% |
X‑கதிர் சிதறல் காரணிகள் (502)
| ஆற்றல் (eV) | f₁ | f₂ |
|---|---|---|
| 10 | — | 0.05165 |
| 10.1617 | — | 0.05648 |
| 10.3261 | — | 0.06176 |
| 10.4931 | — | 0.06754 |
| 10.6628 | — | 0.07386 |
| 10.8353 | — | 0.08077 |
| 11.0106 | — | 0.08833 |
| 11.1886 | — | 0.09659 |
| 11.3696 | — | 0.10831 |
| 11.5535 | — | 0.12462 |
கூடுதல் தரவுகள்
Estimated Crustal Abundance
The estimated element abundance in the earth's crust.
5.85×102 milligrams per kilogram
மேற்கோள்கள் (1)
- [5] Fluorine https://education.jlab.org/itselemental/ele009.html
Estimated Oceanic Abundance
The estimated element abundance in the earth's oceans.
1.3 milligrams per liter
மேற்கோள்கள் (1)
- [5] Fluorine https://education.jlab.org/itselemental/ele009.html
மேற்கோள்கள்
(9)
Data deposited in or computed by PubChem
The half-life and atomic mass data was provided by the Atomic Mass Data Center at the International Atomic Energy Agency.
Element data are cited from the Atomic weights of the elements (an IUPAC Technical Report). The IUPAC periodic table of elements can be found at https://iupac.org/what-we-do/periodic-table-of-elements/. Additional information can be found within IUPAC publication doi:10.1515/pac-2015-0703 Copyright © 2020 International Union of Pure and Applied Chemistry.
The information are cited from Pure Appl. Chem. 2018; 90(12): 1833-2092, https://doi.org/10.1515/pac-2015-0703.
Thomas Jefferson National Accelerator Facility (Jefferson Lab) is one of 17 national laboratories funded by the U.S. Department of Energy. The lab's primary mission is to conduct basic research of the atom's nucleus using the lab's unique particle accelerator, known as the Continuous Electron Beam Accelerator Facility (CEBAF). For more information visit https://www.jlab.org/
The periodic table at the LANL (Los Alamos National Laboratory) contains basic element information together with the history, source, properties, use, handling and more. The provenance data may be found from the link under the source name.
The periodic table contains NIST's critically-evaluated data on atomic properties of the elements. The provenance data that include data for atomic spectroscopy, X-ray and gamma ray, radiation dosimetry, nuclear physics, and condensed matter physics may be found from the link under the source name. Ref: https://www.nist.gov/pml/atomic-spectra-database
This section provides all form of data related to element Fluorine.
The element property data was retrieved from publications.